[发明专利]一种小型双真空腔体低温超导磁体杜瓦在审

专利信息
申请号: 202010915396.8 申请日: 2020-09-03
公开(公告)号: CN112038034A 公开(公告)日: 2020-12-04
发明(设计)人: 郝强旺;吕波;宾斌;杨洋;戴超;张洪明;符佳 申请(专利权)人: 中国科学院合肥物质科学研究院
主分类号: H01F6/04 分类号: H01F6/04;H01F6/00
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 代理人: 张乾桢
地址: 230031 安徽*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 小型 空腔 低温 超导 磁体
【权利要求书】:

1.一种小型双真空腔体低温超导磁体杜瓦,其特征在于,包括:

杜瓦主腔体、杜瓦延伸腔体以及中心超高真空中心腔体;所述杜瓦主腔体包括杜瓦上腔体、杜瓦下腔体;

其中杜瓦上腔体、杜瓦下腔体均为中空圆柱体,杜瓦延伸腔体为长方体,杜瓦上腔体和杜瓦下腔体在纵向上被一块圆形不锈钢隔板隔开,杜瓦上腔体和杜瓦下腔体都与侧面的杜瓦延伸腔体相连通;在圆形不锈钢隔板的径向上开有多个放射状的通光通道,圆形不锈钢隔板的中心有通孔,中心通孔上有多个开孔与径向通光通道连通;在中心通孔上下装有刀口法兰,通过刀口法兰上下各连接一段不锈钢管道,两段不锈钢管道和隔板的中心通孔形成圆柱形的所述超高真空中心腔体;多个放射状的通光通道与超高真空中心腔体连通,通光通道外端口安装有法兰窗口,用来做中心腔体的光谱观察、真空抽气、气体注入的通道;

杜瓦上、下腔体用来放置上下4.5K低温超导磁体,4.5K低温超导磁体采用制冷机传导冷却方式制冷,杜瓦延伸腔体用来放置导冷部件;所述杜瓦上、下腔体和杜瓦延伸腔体的真空度相同,为次级真空腔体,次级真空的真空度量级为10-5Pa;圆形不锈钢隔板上的通光通道与超高真空中心腔体的真空度相同,为超高真空腔体,所述超高真空的真空度量级为10-8Pa。

2.根据权利要求1所述的一种小型双真空腔体低温超导磁体杜瓦,其特征在于:

所述次级真空腔体真空度量级为10-5Pa,能够降低低温超导的漏热;超高真空腔体的真空度量级为10-8Pa,用于单一高电荷态离子的产生环境。

3.根据权利要求1所述的一种小型双真空腔体低温超导磁体杜瓦,其特征在于:杜瓦主腔体的直径为400mm,高400mm,圆形不锈钢隔板上通光通道的直径为7~19mm,超高真空中心腔体的直径为19~25mm,高为400mm。

4.根据权利要求1所述的一种小型双真空腔体低温超导磁体杜瓦,其特征在于:杜瓦延伸腔体上侧设置制冷机接口,下侧设置抽气接口和航插接口。

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