[发明专利]一种碳化硼基复相陶瓷及其制备方法

权利要求书

1.一种碳化硼基复相陶瓷，其特征在于，其包括依次层叠设置的加强增硬层、中硬中韧缓冲层和加强增韧层；

其中，所述加强增硬层包括加强增硬粉料，以所述加强增硬粉料的总质量计，所述加强增硬粉料包括如下质量百分含量的组分：

碳化硼粉体 85~95 wt%

Ti0₂粉体 3~5 wt%

纯Ni粉 2~5 wt%

铝粉 1~5 wt%；

所述加强增硬粉料的各组分质量百分含量之和满足100%；

所述中硬中韧缓冲层包括中硬中韧缓冲粉料，以所述中硬中韧缓冲粉料的总质量计，所述中硬中韧缓冲粉料包括如下质量百分含量的组分：

碳化硼粉体 85~95 wt%

SiC 5~10 wt%

Al₂O₃粉体 2~5 wt%；

所述中硬中韧缓冲粉料的各组分质量百分含量之和满足100%；

所述加强增韧层包括加强增韧粉料，以所述加强增韧粉料的总质量计，所述加强增韧粉料包括如下质量百分含量的组分：

碳化硼粉体 85~95 wt%

CeO₂粉体 3~7 wt%

Al₂O₃粉体 2~5 wt%。

2.根据权利要求1所述的碳化硼基复相陶瓷，其特征在于，所述碳化硼粉体的D50≤0.5μm；所述Ti0₂粉体的D50≤1μm；所述SiC的D50≤0.5μm；Al₂O₃粉体的D50≤1μm；所述CeO₂粉体的D50≤0.5μm。

3.根据权利要求1所述的碳化硼基复相陶瓷，其特征在于，所述加强增硬层、所述中硬中韧缓冲层和所述加强增韧层均还包括光敏树脂体系、光引发剂和分散剂；

其中，所述光敏树脂体系包括光敏预聚体和稀释单体；所述光敏预聚体选自丙烯酸酯化环氧树脂、聚氨酯丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯中的一种或几种；所述稀释单体选自丙烯酸丁酯、新戊二醇二丙烯酸酯、乙氧基乙氧基乙基丙烯酸酯中一种或几种；所述稀释单体与所述光敏预聚体的质量比为1.5~3：1；

所述光引发剂为安息香和/或苯基双（2,4,6-三甲基苯甲酰基）氧化膦；所述光引发剂的添加量为所述光敏树脂体系总质量的3~5%；

所述分散剂为聚羧酸铵盐；所述分散剂的添加量为所述光敏树脂体系总质量的0.1~0.5%。

4.根据权利要求3所述的碳化硼基复相陶瓷，其特征在于，所述光敏预聚体分别与所述加强增硬粉料、所述中硬中韧缓冲粉料、所述加强增韧粉料的质量比均为1：2~3.5。

5.根据权利要求1-4任一项所述的碳化硼基复相陶瓷，其特征在于，所述碳化硼基复相陶瓷的厚度为5.5~9.5 mm。

6.根据权利要求5所述的碳化硼基复相陶瓷，其特征在于，所述碳化硼基复相陶瓷的厚度为5.5 mm或9.5 mm。