[发明专利]偏振膜的制造方法

权利要求书

1.一种偏振膜的制造方法，所述偏振膜在起偏镜的至少一面隔着粘接剂层设置有透明保护膜，该方法包括：

第一涂敷工序，在所述透明保护膜的贴合面涂敷粘接剂组合物；

贴合工序，使所述起偏镜及所述透明保护膜贴合；以及

粘接工序，从起偏镜面侧或透明保护膜面侧照射活性能量射线，使所述粘接剂组合物固化而得到粘接剂层，从而隔着所述粘接剂层使所述起偏镜及所述透明保护膜粘接，

所述透明保护膜的SP值与所述粘接剂组合物的SP值之间的SP值距离为5.3以上。

2.根据权利要求1所述的偏振膜的制造方法，其进一步具有第二涂敷工序，该第二涂敷工序在所述起偏镜的贴合面涂敷易粘接组合物，

所述粘接工序是隔着使所述粘接剂组合物及所述易粘接组合物固化而得到的粘接剂层使所述起偏镜及所述透明保护膜粘接的工序，

所述透明保护膜的SP值与所述易粘接组合物的SP值之间的SP值距离为8.0以下。

3.根据权利要求2所述的偏振膜的制造方法，其中，

所述易粘接组合物含有下述通式(1)表示的化合物，

式中，X为包含反应性基团的官能团，R¹及R²分别独立地表示氢原子、任选具有取代基的脂肪族烃基、芳基或杂环基，X所含的反应性基团为选自乙烯基、(甲基)丙烯酰基、苯乙烯基、(甲基)丙烯酰胺基、乙烯基醚基、环氧基、氧杂环丁基及巯基中的至少1种反应性基团。

4.根据权利要求3所述的偏振膜的制造方法，其中，

所述通式(1)表示的化合物为下述通式(1’)表示的化合物，

式中，Y为有机基团，X’为X所含的反应性基团，R¹及R²与上述含义相同。

5.根据权利要求2所述的偏振膜的制造方法，其中，

所述易粘接组合物含有下述通式(2)表示的自由基聚合性化合物，

式中，R³为氢原子或甲基，R⁴及R⁵分别独立地为氢原子、烷基、羟基烷基、烷氧基烷基或环状醚基，R⁴及R⁵任选形成环状杂环。