[发明专利]一种运用改进SIFT特征点的GF-2影像水印方法在审

专利信息
申请号: 202010921194.4 申请日: 2020-09-04
公开(公告)号: CN111986068A 公开(公告)日: 2020-11-24
发明(设计)人: 张黎明;马文骏;李玉 申请(专利权)人: 兰州交通大学
主分类号: G06T1/00 分类号: G06T1/00;G06K9/62
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 730070 甘肃*** 国省代码: 甘肃;62
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摘要:
搜索关键词: 一种 运用 改进 sift 特征 gf 影像 水印 方法
【权利要求书】:

1.一种运用改进SIFT特征点的GF-2影像水印方法,包括:SIFT特征点筛选和GF-2影像版权保护水印方法;

SIFT特征点筛选步骤如下:

S1:运用SIFT特征点提取算子提取GF-2影像特征点;

S2:将所提取GF-2影像特征点坐标值作为训练样本,利用Mean Shift方法进行聚类;

S3:为同一聚类中的关键点计算平均SIFT描述符;

S4:经过聚类的SIFT特征点,在确定其位置(x1,y1)、方向、尺度S后,以R为半径构造圆形区域;

S5:对特征点的间距D会进行一次筛选;

GF-2影像版权保护水印生成、嵌入与检测步骤如下:

S6:选择Arnold变换方法对版权水印进行置乱处理;

S7:读取原始GF-2影像Q0,Q0{g(i,j),0≤i≤M,0≤j≤N},g(i,j)为影像像元值,尺寸为M×N;

S8:读取二值水印信息为W,水印信息长度为Z×L;

S9:利用NSCT提取出特征区域低频子带L0,进行SVD处理,得到其奇异值λ0

S10:利用SVD提取水印信息W的奇异值λw(保存UW与VW为密钥K3),并依据式(8)嵌于低频子带L1的奇异值λ0中;

S11:对已嵌入水印信息奇异值的低频子带奇异值λL′进行逆SVD得到L1

S12:对低频子带进行逆NSCT变换,还原为所选SIFT特征区域,并得到最终含水印影像Q1

S13:结束。

2.根据权利要求1所述的一种运用改进SIFT特征点的GF-2影像水印方法,其特征在于步骤S1~S5中,利用Mean Shift方法对GF-2影像SIFT特征点进行筛选与优化。

3.根据权利要求1或2所述的一种运用改进SIFT特征点的GF-2影像水印方法,其水印生成方法在于步骤S6中,还包括在得到特征区域的基础上执行步骤S9~S12,从而完成对GF-2影像的版权保护。

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