[发明专利]用于物理气相沉积工艺的靶材初始处理方法与控制器

权利要求书

1.一种基于物理气相沉积工艺的靶材初始处理方法，其特征在于，包括：

从零开始分多次提高新靶材上的导通电流至预设电流，每次提高所述导通电流之前暂停第一预设时间；

将所述导通电流提高至所述预设电流后，通过该预设电流完成所述新靶材参与腔体清洁的过程；

其中，各所述第一预设时间的长度相同或不同，每次提高所述导通电流时，控制各所述导通电流在第二预设时间之内达到目标电流，各所述第二预设时间相同或不同；

所述预设电流值为m，所述从零开始分多次提高新靶材上的导通电流至预设电流包括：从零开始分n次提高所述导通电流，所述导通电流每次提高的值不大于m/n，其中m、n均为正整数，n≥2。

2.如权利要求1所述的靶材初始处理方法，其特征在于，所述从零开始分多次提高新靶材上的导通电流至预设电流包括：

响应新靶材通电信号，控制恒流源顺次输出由低到高的第一电流至第n电流直至输出所述预设电流，n≥2，其中，所述第一电流至所述第n电流中各电流输出的持续时长为30s～60s。

3.如权利要求1所述的靶材初始处理方法，其特征在于，所述从零开始分多次提高新靶材上的导通电流至预设电流包括：

响应新靶材通电信号，控制连接所述新靶材的多个恒流源顺次启动，相邻两个恒流源的启动时间之间间隔30s～60s。

4.如权利要求1所述的靶材初始处理方法，其特征在于，所述从零开始分多次提高新靶材上的导通电流至预设电流包括：

响应新靶材通电信号，控制连接所述新靶材的恒压源顺次输出由低到高的第一电压至第n电压直至输出与所述预设电流对应的预设电压，其中，n≥2，第一电压至所述第n电压的持续时长相等，所述持续时长为30s～60s；

或者，响应新靶材通电信号，控制连接所述新靶材的多个恒压源顺次启动，其中每个所述恒压源输出的电压相同，相邻两个恒压源的启动时间之间间隔30s～60s。

5.一种用于物理气相沉积工艺的控制器，其特征在于，用于执行如权利要求1-4任一项所述的靶材初始处理方法。