[发明专利]基于脱靶评估评价基因编辑治疗的方法在审

专利信息
申请号: 202010922392.2 申请日: 2020-09-04
公开(公告)号: CN112447264A 公开(公告)日: 2021-03-05
发明(设计)人: 袁鹏飞;方日国;金鸣;张永建 申请(专利权)人: 博雅辑因(北京)生物科技有限公司
主分类号: G16B20/30 分类号: G16B20/30;G16B20/50;G16B30/10
代理公司: 北京彩和律师事务所 11688 代理人: 张红春
地址: 102206 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 基于 脱靶 评估 评价 基因 编辑 治疗 方法
【权利要求书】:

1.一种确定细胞疗法对个体的适合性的方法,其包括向所述个体施用源自所述个体的基因修饰细胞群,其中所述基因修饰细胞是在靶位点经过基因编辑修饰的,

所述方法包括以下步骤:

a)确定所述基因修饰细胞或其后代中在多个脱靶标志位点中的每一个位点的基因编辑的发生,

b)基于所述基因编辑的发生评估所述治疗的适合性,

其中在所述多个脱靶标志位点中没有任何一个发生基因编辑表明所述细胞疗法对所述个体是适合的。

2.权利要求1的方法,其中在施用所述基因修饰细胞前对所述基因修饰细胞进行所述确定步骤。

3.权利要求2的方法,其中所述方法进一步包括向所述个体施用所述基因修饰细胞。

4.权利要求1的方法,其中在施用所述基因修饰细胞后对所述基因修饰细胞的后代进行所述确定步骤。

5.权利要求4的方法,其中所述确定步骤在施用所述基因修饰细胞后至少约一个月进行。

6.权利要求4或5的方法,其进一步包括将所述确定和评估步骤重复一次或多次。

7.权利要求6的方法,其中所述确定和评估步骤以约每月一次至约每年一次的频率重复。

8.一种评估基因修饰细胞群或其后代中脱靶基因编辑的方法,其中所述基因修饰细胞是在靶位点经过基因编辑修饰的,所述方法包括确定在多个脱靶标志位点中的每一个位点的基因编辑的发生,其中通过以下方式获得所述多个脱靶标志位点:1)基于与所述靶位点的序列相似性鉴定第一多个脱靶标志位点;和/或2)使用体外试验方法鉴定第二多个脱靶标志位点,其中在脱靶标志位点有大于0.1%的序列变化,或与未通过基因编辑修饰的对照细胞相比在脱靶标志位点有大于2倍的序列变化,指示基因修饰细胞群或其后代中有脱靶基因编辑。

9.一种在基因修饰细胞群中获得多个脱靶标志位点的方法,所述基因修饰细胞是在靶位点经过基因编辑修饰的,脱靶标志位点该方法包括:1)基于与所述靶位点的序列相似性鉴定第一多个脱靶标志位点;和2)使用体外试验方法鉴定第二多个脱靶标志位点。

10.一种用于评估基因修饰细胞群或其后代的脱靶编辑的试剂盒,其中所述基因修饰细胞是经过在靶位点基因编辑修饰的,该试剂盒包括:1)基因编辑系统的一个或多个组分,其用于产生所述基因修饰细胞;和b)多个用于扩增包含多个脱靶标志位点的核酸的引物组。

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