[发明专利]一种羟基化氮化硼复合膜及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 202010926016.0 | 申请日： | 2020-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN112023702B | 公开（公告）日： | 2022-02-08 |
| 发明（设计）人： | 胡念武;刘雄斌;高颂;晏群山;舒灏;倪家志;田陈磊;汪丹 | 申请（专利权）人： | 湖北中烟工业有限责任公司;湖北新业烟草薄片开发有限公司 |
| 主分类号： | B01D61/14 | 分类号： | B01D61/14;B01D67/00;B01D69/02;B01D69/12;B01D71/02;B01D71/34;C02F1/28;C02F1/44;C02F101/36;C02F101/38 |
| 代理公司： | 浙江千克知识产权代理有限公司 33246 | 代理人： | 裴金华 |
| 地址： | 430000 湖北省*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 羟基 氮化 复合 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种羟基化氮化硼复合膜，其特征在于：按质量份包括0.5-2份羟基化氮化硼和1份MXene，所述羟基化氮化硼和MXene形成的复合膜分布在支撑基底上；
所述羟基化氮化硼与所述MXene均为纳米片；
所述羟基化氮化硼复合膜包括以下制备步骤，
步骤1：将羟基化氮化硼、MXene和金属氢氧化物纳米胶体在液相中混合，得到混合均匀的混合溶液；
步骤2：将步骤1中的混合溶液均匀分散在支撑基底上，对支撑基底上的溶液进行抽滤，水分抽干后形成膜层；
步骤3：采用去离子水和稀酸溶液反复冲洗步骤2中的膜层，最后进行真空干燥，即得到羟基化氮化硼复合膜；
所述金属氢氧化物纳米胶体为氢氧化铁纳米胶体，所述MXene和所述氢氧化铁纳米胶体的质量比为1：0.2-1。
2.根据权利要求1所述的羟基化氮化硼复合膜，其特征在于：所述支撑基底为陶瓷基底或聚偏氟乙烯基底。
3.根据权利要求1所述的羟基化氮化硼复合膜，其特征在于：所述氢氧化铁纳米胶体的尺寸为3-8 nm。
4.根据权利要求3所述的羟基化氮化硼复合膜 ，其特征在于：所述羟基化氮化硼和MXene的加入量质量比为0.5-2：1。
5.根据权利要求4所述的羟基化氮化硼复合膜，其特征在于：步骤（1）中所述羟基化氮化硼、MXene和氢氧化铁纳米胶体的混合顺序为：将MXene和氢氧化铁纳米胶体加入到去离子水中，得到混合溶液，再将羟基化氮化硼加入到MXene和氢氧化铁纳米胶体的混合溶液中，得到混合均匀的混合溶液。
6.根据权利要求5所述的羟基化氮化硼复合膜，其特征在于：所述去离子水的质量为所述MXene的质量的20-100倍。
7.根据权利要求6所述的羟基化氮化硼复合膜，其特征在于：所述稀酸溶液为0.5-1.0mol/L稀盐酸。
8.根据权利要求7所述的羟基化氮化硼复合膜，其特征在于：所述去离子水和稀盐酸溶液反复冲洗的次数为各3-4次。
9.根据权利要求1所述的羟基化氮化硼复合膜，其特征在于：所述步骤3中真空干燥的干燥温度为100-200 ℃，干燥时间为1-3 h。
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