[发明专利]显示装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 202010928332.1 申请日: 2020-09-07
公开(公告)号: CN112201760B 公开(公告)日: 2021-12-03
发明(设计)人: 黄静 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L27/32;G09F9/30
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 黄舒悦
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 显示装置 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种显示装置,其特征在于,包括:

柔性基板,开设有呈底切的凹槽,所述凹槽的内表面由第一部分和第二部分构成;以及

显示功能层,设置于所述柔性基板上且包括有机发光层,所述有机发光层在所述凹槽处断开;

所述凹槽的内侧壁上覆盖一有机层,所述有机层设置于所述第二部分上,所述第一部分与所述有机层的亲水性能相反。

2.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述第一部分为经等离子处理的亲水柔性衬底或者疏水柔性衬底。

3.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述第一部分包括形成在所述柔性基板上的亲水涂层或者疏水涂层。

4.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述显示装置还包括覆盖所述显示功能层的薄膜封装层,所述薄膜封装层包括至少一无机层,所述无机层覆盖于所述有机层和所述第一部分上。

5.如权利要求1至4任一项所述的显示装置,其特征在于,所述柔性基板包括阻隔层和设置于所述阻隔层两侧的第一柔性衬底和第二柔性衬底,

所述凹槽包括开设于所述第一柔性衬底中的第一凹槽和开设于所述第二柔性衬底中的第二凹槽,第一凹槽与所述第二凹槽相连通,有机层覆盖所述第一凹槽和所述第二凹槽的内侧壁。

6.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述显示装置包括显示区域、感光区域和外围区域,所述显示区域包围所述感光区域,所述外围区域设置于所述显示区域和所述感光区域之间,所述感光区域用于设置感光元件,所述凹槽设置于所述外围区域。

7.一种显示装置的制造方法,其包括以下步骤:

提供一柔性基板,在所述柔性基板上开设呈底切的凹槽;

对所述凹槽的内表面进行亲水或者疏水处理,形成具有亲水性或者疏水性的第一部分和第二部分,向所述凹槽内滴入与所述第一部分的亲水性能相反的有机墨水,待所述有机墨水干燥后在所述第二部分干燥后形成一有机层;

在所述柔性基板上形成显示功能层,所述显示功能层包括有机发光层,所述有机发光层在所述凹槽处断开。

8.如权利要求7所述的显示装置的制造方法,其特征在于,对所述凹槽的内表面进行亲水或者疏水处理,形成具有亲水性或者疏水性的第一部分和第二部分的步骤包括等离子处理或者在所述柔性基板涂布亲水涂层或者疏水涂层。

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