[发明专利]一种显示面板及制程方法有效

专利信息
申请号: 202010928540.1 申请日: 2020-09-07
公开(公告)号: CN112086576B 公开(公告)日: 2022-09-09
发明(设计)人: 蔡振飞 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32;G09F9/30
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 李新干
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 显示 面板 方法
【权利要求书】:

1.一种显示面板,其特征在于,包括:

缓冲层,具有相对设置的第一面和第二面;

多晶硅层,设置在所述第一面,所述多晶硅层包括第一部和第二部,所述第一部和第二部间隔设置,所述第二部形成走线结构;其中,所述第二部形成扫描线和数据线,所述数据线和所述扫描线垂直设置;

第一绝缘层,设置在所述第一面且覆盖所述多晶硅层;

第一金属层,设置在所述第一绝缘层远离所述缓冲层的一面,且与所述第一部对应;

第二绝缘层,设置在所述第一绝缘层远离所述缓冲层的一面,且覆盖所述第一金属层;

第二金属层,设置在所述第二绝缘层远离所述缓冲层的一面,所述第二金属层具有第一子金属层和第二子金属层,所述第一子金属层与所述第一部对应,所述第二子金属层通过第一过孔与所述第二部的所述扫描线连接;其中,所述第一过孔位于所述数据线的两侧;

层间绝缘层,设置在所述第二绝缘层远离所述缓冲层的一面,且覆盖所述第二金属层。

2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,还包括源漏极层、平坦化层以及阳极层,所述源漏极层设置在所述层间绝缘层远离所述缓冲层的一面,所述源漏极层通过第二过孔与所述第一部连接,所述平坦化层设置在所述层间绝缘层远离所述缓冲层的一面,且覆盖所述源漏极层,所述阳极层设置在所述平坦化层远离所述缓冲层的一面,所述阳极层通过第三过孔与所述源漏极层连接,所述阳极层采用电致变色材料,所述阳极层在不通电时,所述阳极层透明。

3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述阳极层包括层叠设置的第一透明导电薄膜,三氧化钨层以及第二透明导电薄膜。

4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述缓冲层包括依次层叠设置的第一绝缘薄膜、第一子缓冲层、第二绝缘薄膜、第二子缓冲层,所述第二子缓冲层靠近所述多晶硅层。

5.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,还包括发光层和像素定义层,所述发光层位于所述阳极层远离所述缓冲层的一面,所述像素定义层位于平坦化层远离所述缓冲层的一面,所述平坦化层与所述发光层远离所述缓冲层的一面平齐。

6.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,还包括发光电极层,所述发光电极层位于所述像素定义层远离所述缓冲层的一面,所述发光电极层与所述发光层连接。

7.根据权利要求6所述的显示面板,其特征在于,还包括阴极层、第一封装层以及第二封装层,所述阴极层、第一封装层以及第二封装层依次层叠设置在所述发光电极层远离所述缓冲层的一面。

8.一种显示面板制程方法,其特征在于,包括:

提供一缓冲层,具有相对设置的第一面和第二面;

在所述第一面设置多晶硅层,所述多晶硅层包括第一部和第二部,所述第一部和第二部间隔设置,所述第二部形成走线结构;其中,所述第二部形成扫描线和数据线,所述扫描线和所述数据线垂直设置;

在所述第一面设置第一绝缘层,所述第一绝缘层覆盖所述多晶硅层;

在所述第一绝缘层远离所述缓冲层的一面设置第一金属层,所述第一金属层与所述第一部对应;

在所述第一绝缘层远离所述缓冲层的一面设置第二绝缘层,所述第二绝缘层覆盖所述第一金属层;

在所述第二绝缘层远离所述缓冲层的一面设置第二金属层,所述第二金属层具有第一子金属层和第二子金属层,所述第一子金属层与所述第一部对应,所述第二子金属层通过第一过孔与所述第二部的所述扫描线连接;其中,所述第一过孔设置在所述数据线的两侧;

在所述第二绝缘层远离所述缓冲层的一面设置层间绝缘层,所述层间绝缘层覆盖所述第二金属层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司,未经武汉华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010928540.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top