[发明专利]硅胶产品表面处理方法在审

申请号：	202010930525.0	申请日：	2020-09-07
公开（公告）号：	CN112123747A	公开（公告）日：	2020-12-25
发明（设计）人：	彭攀巅	申请（专利权）人：	深圳市科安硅胶制品有限公司
主分类号：	B29C59/16	分类号：	B29C59/16;B29C59/00;B29C71/04;B29C71/02
代理公司：	深圳正和天下专利代理事务所(普通合伙) 44581	代理人：	杨波
地址：	518000 广东省深圳市龙岗区平***	国省代码：	广东;44
权利要求书：	查看更多	说明书：	查看更多
摘要：
搜索关键词：	硅胶产品表面处理方法
钻瓜网技术展会专利词库专利权人专利榜在售专利公布日期热门专利

【说明书】：

本发明涉及一种硅胶产品表面处理方法，包括以下步骤：S1、将待处理硅胶产品放入温度在80℃至100℃的处理腔；S2、紫外发光装置向所述处理腔发出紫外线，对所述待处理硅胶产品表面进行活化处理。硅胶产品表面处理方法通过紫外线和温度的调控对处理腔内硅胶表面进行活化处理,紫外发光装置的光线让产品保持稳定的辐照面积与效果，能有效地到达硅胶产品表面，光线稳定，达到给硅胶表面做防尘处理,工序简单,但效果显著。

技术领域

本发明涉及硅胶处理领域，更具体地说，涉及一种硅胶产品表面处理方法。

背景技术

现有硅胶产品因为分子结构比较大，基本都是放久了会沾灰。紫外线除用来消毒和杀菌外，广泛应用在硅胶的表面处理。硅胶的表面处理是采用臭氧和紫外光线等产生的一系列复杂的反应，使硅胶表面满足一定的要求。

现在广泛采用的技术是采用低功率异型紫外光源或者有极紫外光源产生少量的臭氧并且光线照射在硅胶产品上，臭氧、光源有效光线和硅胶产生反应进行硅胶产品的处理。

此过程中由于光线逸散，导致有效光线密度较小，因此反应过程较长，产生大量热量，效率较低且温度过高影响设备寿命。

发明内容

本发明要解决的技术问题在于，提供一种硅胶产品表面处理方法。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：构造一种硅胶产品表面处理方法，包括以下步骤：

S1、将待处理硅胶产品放入温度在80℃至100℃的处理腔；

S2、紫外发光装置向所述处理腔发出紫外线，对所述待处理硅胶产品表面进行活化处理。

优选地，所述步骤S1中，先将所述处理腔升温至80℃至100℃，再将所述待处理硅胶产品放入所述处理腔。