[发明专利]一种硅片化学机械精抛抛光液的制备方法

权利要求书

1.一种硅片化学机械精抛抛光液的制备方法，其方法操作如下：

按照质量份数，将20-60份的改性纳米二氧化硅溶胶加入到反应釜，然后将0.1-0.56份的表面活性剂加入到50-80份的去离子水中，控温40-60℃搅拌混合20-30min后趁热加入到反应釜中，剧烈搅拌下搅拌分散60-120min；分散均匀后将0.2-0.6份的有机胺加入到反应釜中，控温35-45℃，搅拌20-30min，然后用降温到室温，用0.01-0.05mol/L的氢氧化钠溶液调节pH值为9-13；加入0.3-2份的螯合剂和3-6份的氧化剂，在20-30℃下搅拌混合120-240min后过滤，即可得到所述的一种硅片化学机械精抛抛光液；

所述的改性纳米二氧化硅溶胶为一种有机改性纳米二氧化硅溶胶，其制备方法如下：

按照质量份数，将20-40份的无水乙醇和3-10份的正硅酸乙酯加入到反应釜中，搅拌混合20-50min后将0.8-2.4份的二乙烯三胺和0.5-3.8份的丙烯酸甲酯加入到反应釜中，控温40-60℃，将20-30份的质量份数为5％-15％的氨水缓慢加入到反应釜中，控制在45-90min内加入完毕，加完后缓慢搅拌下反应3-7h，然后将6-10份的3-氨丙基三乙氧基硅烷溶液加入到反应釜中，控温40-60℃，搅拌反应2-6h，完成后即可得到所述的一种有机改性纳米二氧化硅溶胶。

2.根据权利要求1所述的一种硅片化学机械精抛抛光液的制备方法，其特征在于：所述的3-氨丙基三乙氧基硅烷溶液按照以下方法制备：

按照质量份数，将2-8份的3-氨丙基三乙氧基硅烷中加入4-20份的无水乙醇，搅拌均匀后加入80-95份的去离子水，搅拌水解10-20min，后即可得到所述的3-氨丙基三乙氧基硅烷溶液。

3.根据权利要求1所述的一种硅片化学机械精抛抛光液的制备方法，其特征在于：所述的有机胺为三乙醇胺或四乙基氢氧化胺或乙二胺。

4.根据权利要求1所述的一种硅片化学机械精抛抛光液的制备方法，其特征在于：所述的表面活性剂为十二烷基三甲基溴化铵或聚氧乙烯月桂醚或聚丙烯酸钠。

5.根据权利要求1所述的一种硅片化学机械精抛抛光液的制备方法，其特征在于：所述的氧化剂为碱性介质氧化剂过碳酸钠或过硼酸钠或过硼酸钾。

6.根据权利要求1所述的一种硅片化学机械精抛抛光液的制备方法，其特征在于：所述的螯合剂为乙二胺四甲叉膦酸或乙二胺四乙酸四(四羟乙基乙二胺)。

7.根据权利要求1所述的一种硅片化学机械精抛抛光液的制备方法，其特征在于：所述的过滤采用1-5μm的熔喷聚丙烯滤芯循环过滤。