[发明专利]三维光学衍射层析成像方法及装置在审
申请号: | 202010932532.4 | 申请日: | 2020-09-08 |
公开(公告)号: | CN114002190A | 公开(公告)日: | 2022-02-01 |
发明(设计)人: | 朴龙根;赫夫·杰罗姆·胡戈内特 | 申请(专利权)人: | 唐摩库柏公司;韩国科学技术院 |
主分类号: | G01N21/47 | 分类号: | G01N21/47;G01N21/41 |
代理公司: | 成都超凡明远知识产权代理有限公司 51258 | 代理人: | 魏彦 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 三维 光学 衍射 层析 成像 方法 装置 | ||
1.一种三维光学衍射层析成像方法,利用三维光学衍射层析成像装置的利用低相干光源和多重图案照明的上述三维光学衍射层析成像方法,其特征在于,包括:
利用多个图案向试片入射光源的步骤;
在图像测定部中,在上述试片的不同深度位置上测定不同的位置,以此测定上述试片的二维影像的步骤;以及
以在不同的上述图案和在不同的上述深度位置中测定的上述二维影像为基础复原上述试片的三维折射率信息的步骤。
2.根据权利要求1所述的三维光学衍射层析成像方法,其特征在于,还包括如下的步骤,即,在测定上述试片的二维影像之前,在上述试片与上述图像测定部之间设置光传播部,以在上述试片与上述图像测定部之间引发光的传播。
3.根据权利要求1所述的三维光学衍射层析成像方法,其特征在于,在利用上述多个图案来向试片入射光源的步骤中,使用至少3个光照明图案,以空间频率坐标系为基准,光的强度位于最外围,当在被定义为上述最外围的位置中,组合满足空间频率向中心移动的过程中,光的强度减少的条件的多个图案来生成最终光学传递函数时,在各个空间频率位置中,以使光学传递函数值最大程度均匀的方式确定图案。
4.根据权利要求1所述的三维光学衍射层析成像方法,其特征在于,在利用上述多个图案来向试片入射光源的步骤中,随着使用透射型或反射型显示装置或者使用记录图案的装置来控制入射图案,利用上述多个图案来向试片入射光源。
5.根据权利要求1所述的三维光学衍射层析成像方法,其特征在于,在利用上述多个图案来向试片入射光源的步骤中,随着使用以不同角度向固定器具入射的上述光源来控制入射图案,利用上述多个图案向试片入射光源。
6.根据权利要求1所述的三维光学衍射层析成像方法,其特征在于,在利用上述多个图案来向试片入射光源的步骤中,使用控制上述光源和上述图案的入射图案控制部构成为一体型的发光器件阵列或微型发光器件阵列,利用上述多个图案向试片入射光源。
7.根据权利要求1所述的三维光学衍射层析成像方法,其特征在于,在以上述二维影像为基础复原上述试片的三维折射率信息的步骤中,计算基于振幅及相位的三维点扩散函数,以在不同的z位置中测定的二维影像i(x,y,z)信息为基础,通过重组v(x,y,z)=amplitude(x,y,z)+i×phase(x,y,z)的方式复原上述试片的三维折射率信息。
8.一种三维光学衍射层析成像装置,利用低相干光源和多重图案照明,其特征在于,包括:
入射图案控制部,利用多个图案向试片入射光源;
图像测定部,在上述试片的不同深度位置上测定不同位置,以此测定上述试片的二维影像;以及
计算部,以在不同的上述图案和不同的上述深度位置中测定的上述二维影像为基础来复原上述试片的三维折射率信息。
9.根据权利要求8所述的三维光学衍射层析成像装置,其特征在于,还包括光传播部,设置于上述试片与上述图像测定部之间,在上述试片与上述图像测定部之间引起光的传播。
10.根据权利要求8所述的三维光学衍射层析成像装置,其特征在于,上述入射图案控制部使用至少3个光照明图案,以空间频率坐标系为基准,光的强度位于最外围,当在被定义为上述最外围的位置中,组合满足空间频率向中心移动的过程中,光的强度减少的条件的多个图案来生成最终光学传递函数时,在各个空间频率位置中,以使光学传递函数值最大程度均匀的方式确定图案。
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