[发明专利]一种光刻胶组合物及其应用有效
申请号: | 202010935856.3 | 申请日: | 2020-09-08 |
公开(公告)号: | CN112034687B | 公开(公告)日: | 2021-08-10 |
发明(设计)人: | 卞玉桂;杨彦;姚国强;向文胜;赵建龙;张兵;谢立洋;朱坤;陆兰;顾群艳 | 申请(专利权)人: | 江苏艾森半导体材料股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/039 | 分类号: | G03F7/039;H01L21/027 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 巩克栋 |
地址: | 215300 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光刻 组合 及其 应用 | ||
1.一种光刻胶组合物,其特征在于,所述光刻胶组合物包括如下组分:酚醛树脂、光敏剂和溶剂;
所述酚醛树脂具有式I所示结构:
式I中,所述R和R'各自独立地选自乙基、氢或羟基中的任意一种;
所述x和y各自独立地为1~500的整数;x/(x+y)为15~41%;
所述酚醛树脂的重均分子量为2000~5000;
所述溶剂包括丙二醇甲醚醋酸酯和乳酸乙酯的组合;
所述乳酸乙酯在所述溶剂中的重量百分数为20~30%;
所述光敏剂具有式Ⅱ所示的结构:
式Ⅱ中,所述R1、R2、R3和R4各自独立地选自氢、甲基或中的任意一种,且R1、R2、R3和R4中至少有一个选自其中,波浪线标记处代表基团的连接键;
以所述酚醛树脂的含量为100重量份计,所述光敏剂的含量为15~25重量份;
所述光刻胶组合物中还包括添加剂,所述添加剂包括流平剂和/或消泡剂;
所述流平剂在光刻胶组合物中占比为100~600ppm;
所述消泡剂在光刻胶组合物中占比为50~500ppm。
2.根据权利要求1所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述酚醛树脂的分子量分布为1~2。
3.根据权利要求 1所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述流平剂包括全氟烷基聚醚表面活性剂。
4.根据权利要求1所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述消泡剂包括改性硅聚二甲基硅氧烷和/或有机硅。
5.根据权利要求1所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述消泡剂包括改性硅聚二甲基硅氧烷和有机硅的组合。
6.一种根据权利要求1-5中任一项所述的光刻胶组合物在IC集成电路制造行业中的应用。
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