[发明专利]一种借助于均匀光栅掩膜板制备啁啾光纤布拉格光栅的新方法

权利要求书

1.一种借助于均匀光栅掩膜板制备啁啾光纤布拉格光栅的新方法，其特征在于：啁啾光纤布拉格光栅的组成部分包括纤芯具有较大范围的横向折射率变化的光纤和其纤芯中写入的啁啾光纤布拉格光栅。

2.根据权利要求1所述一种借助于均匀光栅掩膜板制备啁啾光纤布拉格光栅的新方法，其特征在于：具有较大范围的横向变化的纤芯折射率分布是线性分布，或非线性分布。

3.根据权利要求1和权利要求2所述一种借助于均匀光栅掩膜板制备啁啾光纤布拉格光栅的新方法，其特征在于：所述的啁啾光纤布拉格光栅的啁啾效应是通过纤芯折射率不均匀分布实现。

4.一种借助于均匀光栅掩膜板制备啁啾光纤布拉格光栅的新方法，其特征在于：该方法仅使用均匀光栅掩模板，用制备均匀光纤布拉格光栅的流程，可在纤芯具有较大范围的横向折射率变化的光纤上写入啁啾光纤布拉格光栅。

5.根据权利要求4所述一种借助于均匀光栅掩膜板制备啁啾光纤布拉格光栅的新方法，其特征在于：该方法制备的啁啾光纤布拉格光栅的啁啾度，取决于该光纤纤芯折射率横向变化的变化量。

6.根据权利要求4所述一种借助于均匀光栅掩膜板制备啁啾光纤布拉格光栅的新方法，其特征在于：该方法可通过使用不同的纤芯折射率存在较大范围的横向变化的光纤，利用同一块相位掩模板制备出具有不同光谱特征的啁啾光纤布拉格光栅。