[发明专利]一种硅片不良片的制绒处理方法

权利要求书

1.一种硅片不良片的制绒处理方法，其特征在于，包括：

将刻蚀后的不良片置于紫外灯下照射20min；其中，紫外灯的功率为150W；

对预先配置的碱性制绒液进行加热处理；其中，碱性制绒液的加热温度为80℃；

将照射后的硅片放置在碱性制绒液中浸泡5min，进行碱制绒处理；

对碱制绒后的硅片进行清洗处理。

2.如权利要求1所述的硅片不良片的制绒处理方法，其特征在于，所述碱性制绒液由NaClO₃溶液与NaOH溶液配制而成，NaClO₃溶液与NaOH溶液的浓度比为30：1，溶剂为去离子水。

3.如权利要求1所述的硅片不良片的制绒处理方法，其特征在于，所述对碱制绒后的硅片进行清洗处理，具体包括：

将碱制绒后的硅片放置在去离子中漂洗10min；

将漂洗后的硅片放置在浓度为5％的HCl溶液中酸洗1min；

将酸洗后的硅片放置在去离子水中漂洗10min。

4.如权利要求1～3任一项所述的硅片不良片的制绒处理方法，其特征在于，所述方法还包括：

采用光刻胶对清洗后的硅片进行处理，相应制成成品。