[发明专利]一种TiC靶材及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202010938803.7 申请日: 2020-09-09
公开(公告)号: CN112323025A 公开(公告)日: 2021-02-05
发明(设计)人: 胥小勇;颜建师;涂培堤;杨文宏;杨娟娟 申请(专利权)人: 福建瓦能科技有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C23C4/134;C23C4/137;C23C4/10;C23C4/16
代理公司: 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司 11616 代理人: 李洪波
地址: 365000 福建省*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 tic 及其 制备 方法
【说明书】:

发明公开了一种TiC靶材及其制备方法,所述TiC靶材的密度为4.1‑4.6g/cm3,所述TiC靶材电阻率为0.1‑3mΩ.cm,其制备方法包括:(1)将基体表面进行喷砂清理,并喷涂打底层;(2)使用热喷涂设备将TiC粉末喷涂在基体表面;(3)对靶材表面进行剖光处理,并对其进行两端进行机加工处理,所述步骤(1)中基体为合金管或不锈钢管,所述步骤(2)中对靶材进行喷涂时使用惰性气体做气氛保护,所述惰性气体为氮气或氩气。由于使用了气氛保护进行喷涂,靶材氧含量低,电阻率低,从而在镀膜的过程中溅射速率快。本发明采用等离子喷涂的方法制备TiC靶材,成本低,适合直流溅射制备薄膜且溅射稳定。

技术领域

本发明涉及靶材领域,具体是一种TiC靶材及其制备方法。

背景技术

TiC靶材是光学镀膜中普遍使用的一种靶材,在装饰镀膜中有广泛的应用前景,以前TiC 靶材的制备是通过烧结成型的方法制备,本发明首次采用等离子喷涂的方法制备TiC靶材, 成本低,适合直流溅射制备薄膜且溅射稳定。

发明内容

本发明要解决的技术问题就是克服以上的技术缺陷,提供一种TiC靶材及其制备方法。

为了解决上述问题,本发明的技术方案为:一种TiC靶材及其制备方法,所述TiC靶材 的密度为4.1-4.6g/cm3,所述TiC靶材电阻率为0.1-3mΩ.cm。

一种TiC靶材的制备方法,其制备方法包括以下步骤:

(1)将基体表面进行喷砂清理,并喷涂打底层;

(2)使用热喷涂设备将TiC粉末喷涂在基体表面;

(3)对靶材表面进行剖光处理,并对其进行两端进行机加工处理。

作为改进,所述步骤(1)中基体为合金管或不锈钢管。

作为改进,所述步骤(2)中对靶材进行喷涂时使用惰性气体做气氛保护,所述惰性气体 为氮气或氩气。

本发明与现有的技术相比的优点在于:由于使用了气氛保护进行喷涂,靶材氧含量低, 电阻率低,从而在镀膜的过程中溅射速率快。本发明采用等离子喷涂的方法制备TiC靶材, 成本低,适合直流溅射制备薄膜且溅射稳定。

具体实施方式

针对现有技术中的上述不足,本发明提供了一种鞋底用透气吸水性PU树脂的制备方法, 其制备简单,有效增强PU革的吸水透气性,同时本发明能够在保持PU革的手感的前提下, 有效提高PU革的耐磨性及环保性,且具有抗菌性。

实施例一

本实施例提供了一种旋转TiC靶材,所述旋转TiC靶材的密度为4.5g/cm3,电阻率为0.1m Ω.cm。

本实施例还提供一种旋转TiC靶材的制备方法,所述制备方法步骤如下:

(1)将基体表面进行喷砂清理,并喷涂打底层;

(2)使用热喷涂设备将TiC粉末或TiC丝喷涂在基体表面;

(3)对靶材表面进行剖光处理,并对其进行两端进行机加工处理。

所述步骤(1)中基体为不锈钢管,所述步骤(2)中对靶材进行喷涂时使用氮气对靶材 进行保护。

实施例二

本实施例提供了一种旋转TiC靶材,所述旋转TiC靶材的密度为4.48g/cm3,电阻率为 0.12MΩ.cm。

本实施例还提供一种旋转TiC靶材的制备方法,所述制备方法步骤如下:

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