[发明专利]一种基于深度学习的日冕物质抛射检测方法在审
申请号: | 202010941895.4 | 申请日: | 2020-09-09 |
公开(公告)号: | CN112101444A | 公开(公告)日: | 2020-12-18 |
发明(设计)人: | 尚振宏;冼祥贵;袁梅宇 | 申请(专利权)人: | 昆明理工大学 |
主分类号: | G06K9/62 | 分类号: | G06K9/62;G06K9/32;G06K9/46;G06N3/04;G06N3/08 |
代理公司: | 昆明普发诺拉知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 53209 | 代理人: | 蒋晗 |
地址: | 650000 云南*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 深度 学习 日冕 物质 抛射 检测 方法 | ||
1.一种基于深度学习的日冕物质抛射检测方法,其特征在于,包括以下步骤:
Step1、CME图像预处理和数据集制作:CME的d2图像极坐标化并用中值滤波去噪得到所述CME图像,半自动标注目标框制作数据集;
Step2、特征提取:将Step1中的CME图像输入改进后的特征提取网络,得到特征图;
Step3、生成候选区域建议:将步骤Step2得到的特征图输入区域建议网络RPN,得到感兴趣的候选区域建议;
Step4、目标区域池化:以Step2输出的特征图和Step3输出的候选区域建议作为输入,将候选区域建议映射到特征图的对应位置,对映射后的特征图进行池化操作得到统一大小的目标区域特征图;
Step5、进行CME细分类:根据Step4得到的目标区域特征图计算目标类型,区分目标是哪一类CME,得到分类分数;
Step6、边框回归:根据Step4得到的目标区域特征图,进行边界框回归细化边界框,最终获得检测框的精确位置;
Step7、消除重复冗余框:根据step5和step6得到目标特征图,利用非极大值抑制方法去除同一CME目标的重复冗余的目标框,得到最终的CME目标的区域。
2.根据权利要求1所述的一种基于深度学习的日冕物质抛射检测方法,其特征在于,所述步骤Step2具体实现方法为:样本图像输入vgg16网络,经过五个Conv Layer层,将Layer4特征和Layer5特征合并组成特征图作为输出。
3.根据权利要求1所述的一种基于深度学习的日冕物质抛射检测方法,其特征在于,所述步骤Step3具体实现方法为:利用k-means算法求得数据集九个长宽尺寸的聚点,RPN网络根据这九个聚点在Step2的特征图上的每个点生成九个anchor box,再Softmax二分类判别每个anchor box是否为感兴趣区域,由回归网络得到感兴趣区域的位置。
4.根据权利要求1所述的一种基于深度学习的日冕物质抛射检测方法,其特征在于,所述步骤Step4具体实现方法为:将映射后的特征区域划分为相同大小的块,块的数量与输出特征图的维度相同,然后对每个块进行最大池化操作,将一组大小不一的候选区域特征图转化为固定统一尺寸的特征图。
5.根据权利要求1所述的一种基于深度学习的日冕物质抛射检测方法,其特征在于,所述步骤Step7具体实现方法为:非极大值抑制,针对步骤Step6得到的一组检测框,对于每个窗口,选取邻域里分数最高,抑制分数低的检测框,去除冗余的检测框。
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