[发明专利]可光降解的桥联硅烷及其制备方法有效
申请号: | 202010941927.0 | 申请日: | 2020-09-09 |
公开(公告)号: | CN112047974B | 公开(公告)日: | 2021-10-15 |
发明(设计)人: | 朱庆增;张鑫 | 申请(专利权)人: | 山东大学 |
主分类号: | C07F7/08 | 分类号: | C07F7/08;C07F7/18 |
代理公司: | 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 | 代理人: | 杨磊 |
地址: | 250199 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光降解 硅烷 及其 制备 方法 | ||
1.一种桥联硅烷的制备方法,该桥联硅烷具有如下式Ⅰ所示结构:
Ⅰ,
式Ⅰ所示结构中,取代基X1、X2和X3分别独立的选自甲氧基、乙氧基、酰氧基、甲基、乙基、乙烯基、异丙基、苯基、三氟丙基、Cl(CH2)n或NC(CH2)m,n=0~4,m=1~4;
包括步骤如下:
(1)将式Ⅱ化合物、碱的水溶液充分混合均匀,加热后分批加入高锰酸钾,反应后降至室温,将得到的反应液过滤,向滤液中缓慢加入盐酸溶液,调至溶液pH为2~4,产生大量白色沉淀,抽滤后得到的固体即为式Ⅲ化合物;
Ⅱ Ⅲ;
(2)将式Ⅲ化合物溶于溶剂A中,在0~4 ℃冰水浴条件下分批加入还原剂,之后将反应体系升至室温反应,反应时间为6~12 h,制备得到式Ⅳ化合物;
Ⅳ;
(3)将步骤(2)中得到的式Ⅳ化合物溶于溶剂D中,加入三乙胺,0~4 ℃冰水浴下缓慢滴加氯乙酰氯,之后将反应体系升至室温反应,反应完成后,过滤除去三乙胺盐,旋蒸除去溶剂,用去离子水洗涤,经干燥剂干燥后,抽滤、蒸发溶剂浓缩后,柱层析提纯得到式Ⅴ化合物;
Ⅴ;
(4)将步骤(3)中得到的式Ⅴ化合物溶于溶剂E中,加入三乙胺和式Ⅵ化合物,在氮气氛围下加热至50~80 ℃,继续反应3~6 h后,抽滤除去三乙胺盐、旋蒸除去溶剂,得到式Ⅰ化合物;
式Ⅵ化合物结构式中,取代基X1、X2和X3分别独立的选自甲氧基、乙氧基、酰氧基、甲基、乙基、乙烯基、异丙基、苯基、三氟丙基、Cl(CH2)n或NC(CH2)m,n=0~4,m=1~4;
Ⅵ 。
2.根据权利要求1所述的桥联硅烷的制备方法,其特征在于,步骤(1)中反应符合如下条件中的一项或多项:
A、所述的碱为氢氧化钾和氢氧化钠,浓度为0.1~1.0mol/L;所述碱与式Ⅱ化合物的摩尔比为2~1:1;
B、加热温度至90-100℃;
C、所述的式Ⅱ化合物和高锰酸钾的摩尔比为1:2~5;
D、反应温度是80~120℃,反应时间为24~72 h。
3.根据权利要求1所述的桥联硅烷的制备方法,其特征在于,步骤(1)中所述的式Ⅱ化合物和高锰酸钾的摩尔比为1:3~4,反应温度是95~100 ℃,反应时间为30~48 h。
4.根据权利要求1所述的桥联硅烷的制备方法,其特征在于,步骤(2)中反应符合如下条件中的一项或多项:
A、所述的溶剂A为四氢呋喃、二氯甲烷或三氯甲烷;所述溶剂A的体积与式Ⅲ化合物摩尔比为0.5~2 L:1 mol;
B、所述的还原剂为硼烷四氢呋喃络合物,浓度为0.1~1.0 mol/L;所述的还原剂和式Ⅲ化合物的摩尔比为3~5:1;
C、步骤(2)中反应所得反应液进行后处理,方法如下:
向反应所得反应物中缓慢加入溶剂B,待固体溶解全部溶解后,除去溶剂后,重新溶于溶剂C中,将有机相依次用饱和碳酸氢钠水溶液和去离子水各洗涤三次,经干燥剂干燥后,抽滤、蒸发溶剂浓缩后,柱层析提纯得到式Ⅳ化合物。
5.根据权利要求4所述的桥联硅烷的制备方法,其特征在于,步骤(2)反应所得反应液的后处理过程中,所述的溶剂B为甲醇,所述溶剂B与还原剂的摩尔比为1~2:1,所述的溶剂C为乙酸乙酯,所述溶剂C与式Ⅲ化合物的摩尔比为4~6:1,所述的干燥剂为无水硫酸镁、无水硫酸钠、无水氯化钙或分子筛,所述的柱层析提纯方法中,固定相为硅胶,洗脱剂为正己烷和乙酸乙酯的混合溶剂,所述混合溶剂中正己烷和乙酸乙酯体积比为0.5~3:1。
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