[发明专利]一种低重稀土高性能烧结钕铁硼磁体及其制备方法

权利要求书

1.一种低重稀土高性能烧结钕铁硼磁体的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤一，制备速凝片：将钕铁硼原料放入速凝炉中，加热使所述钕铁硼原料熔化，然后浇铸成速凝片；

步骤二，热处理：将所述速凝片和重稀土化合物HRE-X置于旋转热处理炉中，真空下进行扩散热处理，处理结束后充氩冷却，并去除HRE-X；

步骤三，吸氢破碎：将经步骤二热处理后的所述速凝片放入氢破炉中进行吸氢破碎，破碎后再次抽真空并将氢破炉加热进行脱氢反应，然后充氩气冷却至常温，得合金粉；

步骤四，气流磨：将所述合金粉加入防氧化剂充分混合，并在气流磨中制成细粉；

步骤五，取向成型：将加入了防氧化剂的所述细粉中加入润滑剂，混合并充分搅拌，在氮气保护下、在成型压机中加磁场进行取向，得生坯；

步骤六，烧结时效：将所述生坯进行真空烧结，结束后充入氩气进行风冷，然后进行二级回火处理，即得所述低重稀土高性能烧结钕铁硼磁体。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述步骤一中，所述浇铸的温度为1400-1500℃；所述主相速凝片的厚度为200-300μm。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述步骤二中，所述扩散热处理的温度为700-750℃、时间为2-10h。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述步骤二中，所述扩散热处理采用的旋转热处理炉包括炉体以及旋转组件，所述旋转热处理炉的炉体旋转速度为2-20转/分。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述重稀土化合物HRE-X中，所述HRE为Tb、Dy中的任意一种或两种的组合，所述X为Fe、Cu、Al中的任意一种或几种的组合，且其添加量占所述重稀土化合物HRE-X和速凝片总质量的0.5-4wt.％。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述步骤三中，所述脱氢反应的温度为350-500℃。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述步骤四中，高速研磨后的所述细粉粒度为1-4μm。

8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述步骤六中，所述真空烧结的条件为：将所述生坯在1000-1100℃条件下保温6-10h。

9.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述步骤六中，所述二级回火处理的条件为：第一级回火处理的温度为850-950℃、保温时间为2-3h；第二级回火处理的温度为450-580℃，保温时间为1-5h。

10.一种根据权利要求1-9所述制备方法制备的低重稀土高性能烧结钕铁硼磁体。