[发明专利]光掩模、光掩模的制造方法和显示装置的制造方法

权利要求书

1.一种光掩模，其是在透明基板上具备包含透光部、遮光部和半透光部的转印用图案的光掩模，其中，

所述转印用图案通过将形成于所述透明基板上的相位控制膜和透射控制膜分别图案化而形成，

所述相位控制膜对于所述光掩模的曝光光中包含的代表波长的光具有透射率Tp和大致180度的相移量，其中Tp≥2，透射率Tp的单位为％，

所述透射控制膜对于所述代表波长的光具有透射率Th和相移量其中Th≥20、透射率Th的单位为％、相移量的单位为度，

所述透光部是所述透明基板露出而成的，

所述半透光部是在所述透明基板上形成所述透射控制膜而成的，

所述遮光部具有边缘部和层积部，

所述边缘部沿着与所述透光部相邻的边缘以规定宽度D1配置，其是在所述透明基板上形成所述相位控制膜而成的，其中0.5≤D1，规定宽度D1的单位为μm，

所述层积部配置于所述边缘部以外的区域，其是在所述透明基板上层积所述相位控制膜和所述透射控制膜而成的。

2.如权利要求1所述的光掩模，其中，所述半透光部具有与所述遮光部相邻的部分，并且，所述半透光部和所述遮光部对于所述代表波长的光的相位差为大致180度。

3.如权利要求1或2所述的光掩模，其中，所述层积部是在所述透明基板上的所述相位控制膜上直接或间接层积所述透射控制膜而成的。

4.如权利要求1或2所述的光掩模，其中，所述相位控制膜和所述透射控制膜由相互具有蚀刻选择性的材料构成。

5.如权利要求1或2所述的光掩模，其中，

所述层积部除了所述相位控制膜和所述透射控制膜以外还包含层积有遮光膜的区域，

所述遮光膜的光学浓度OD为3以上。

6.如权利要求5所述的光掩模，其中，所述层积部包含在所述透明基板上依次层积有所述相位控制膜、所述遮光膜和所述透射控制膜的区域。

7.如权利要求6所述的光掩模，其中，

所述遮光部进一步具有夹在所述层积部与所述边缘部之间而配置、并以规定宽度M形成的裕量部，其中0M≤0.8，规定宽度M的单位为μm，

所述裕量部是所述遮光膜的表面露出、并且从该遮光膜的表面失去了一部分膜厚的部分。

8.一种光掩模的制造方法，其是在透明基板上具备包含透光部、遮光部和半透光部的转印用图案的光掩模的制造方法，

所述透光部是所述透明基板露出而成的，

所述半透光部是在所述透明基板上形成所述透射控制膜而成的，

所述遮光部具有边缘部和层积部，

所述边缘部沿着与所述透光部相邻的边缘以规定宽度D1配置，其是在所述透明基板上形成相位控制膜而成的，其中0.5≤D1，规定宽度D1的单位为μm，

所述层积部配置于所述边缘部以外的区域，其是在所述透明基板上层积所述相位控制膜和所述透射控制膜而成的，

所述制造方法中，具备下述工序：

准备在所述透明基板上形成有所述相位控制膜的光掩模坯的工序；

第1图案化工序，将所述相位控制膜图案化，形成相位控制膜图案；和

第2图案化工序，在形成于所述相位控制膜图案上和所述透明基板上的所述透射控制膜上形成抗蚀剂膜，对该抗蚀剂膜实施描绘、显影，使用由此形成的抗蚀剂图案将所述透射控制膜图案化，

所述第2图案化工序中，

所述抗蚀剂图案相对于与所述透光部所对应的区域的尺寸在相邻的所述遮光部侧的每一单侧具有以D1量扩张的开口，通过以该抗蚀剂图案作为掩模将所述透射控制膜图案化，形成所述边缘部。

9.如权利要求8所述的光掩模的制造方法，其中，

所述相位控制膜对于所述光掩模的曝光光中包含的代表波长的光具有透射率Tp和大致180度的相移量，其中Tp≥2，透射率Tp的单位为％，

所述透射控制膜对于所述代表波长的光具有透射率Th和相移量其中Th≥20、透射率Th的单位为％、相移量的单位为度。