[发明专利]导电铜排、挂架组件以及电镀设备

说明书

本申请公开了一种导电铜排、挂架组件以及电镀设备，该电铜排包括：固定端，固定端上形成有固定孔，固定端通过固定孔与挂架固定连接；凹槽，凹槽设置于固定端的一端；至少两个接触凸台，接触凸台设置于凹槽中，用于与垂直连续电镀线导电铜排接触导电。本申请通过设置至少两个接触凸台，增加导电铜排与垂直连续电镀线的导电铜排的接触点位，改善垂直连续电镀线的导电铜排与挂架导电铜排因脏污接触不良的问题，提高垂直连续电镀设备的镀铜效果。

技术领域

本申请涉及电路板技术领域，特别是涉及一种导电铜排、挂架组件以及电镀设备。

背景技术

现有的垂直连续电镀设备，垂直连续电镀设备电流的闭环中一个重要的环节是垂直连续电镀线导电铜排与挂架导电铜排的接触，若二者接触不良，会影响印刷线路板的镀铜的效果。垂直连续电镀线的导电铜排与挂架导电铜排的接触面均为平面，通过在挂架导电铜排与垂直连续电镀线导电铜排接触面上涂抹导电油的方式减少垂直连续电镀线的导电铜排与挂架导电铜排之间的摩擦，同时增加二者的导电性。

发明内容

本申请提供一种导电铜排、挂架组件以及电镀设备，解决了挂架在电镀线上长时间运行，因垂直连续电镀线的导电铜排与挂架导电铜排涂油导电油，导电铜排上会积累脏污，导致接触面不良，导电性变差，影响最终的镀铜效果的问题。

为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种导电铜排，导电铜排用于和挂架同步运动时与垂直连续电镀线导电铜排接触导电，该电铜排包括：固定端，固定端上形成有固定孔，固定端通过固定孔与挂架固定连接；凹槽，凹槽设置于固定端的一端；至少两个接触凸台，接触凸台设置于凹槽中，用于与垂直连续电镀线导电铜排接触导电。

其中，接触凸台的厚度设置为5mm。

其中，固定孔设置有多个。

其中，接触凸台边缘与凹槽边缘之间设置有一定间距。

其中，接触凸台与固定端与凹槽连接的一端之间设置有一定间距。

其中，间距设置为5mm。

其中，接触凸台设置有缓冲机构。

其中，接触凸台的接触平面与固定端保持平齐。

为解决上述技术问题，本申请采用的又一个技术方案是：提供一种挂架组件，挂架组件包括挂架和导电铜排，导电铜排通过固定孔固定在挂架上，导电铜排为上述任一项的导电铜排。

为解决上述技术问题，本申请采用的又一个技术方案是：提供一种电镀设备，电镀设备包括挂架组件、驱动组件以及垂直连续电镀线导电铜排，挂架组件固定在驱动组件上，与驱动组件同步运动，运动过程中与垂直连续电镀线导电铜排相接触导电，挂架组件为上述的挂架组件。

本申请的有益效果是：区别于现有技术的情况，本申请提供了一种导电铜排，该电铜排包括：固定端，固定端上形成有固定孔，固定端通过固定孔与挂架固定连接；凹槽，凹槽设置于固定端的一端；至少两个接触凸台，接触凸台设置于凹槽中，用于与垂直连续电镀线导电铜排接触导电。本申请通过设置至少两个接触凸台，增加导电铜排与垂直连续电镀线的导电铜排的接触点位，改善垂直连续电镀线的导电铜排与挂架导电铜排因脏污接触不良的问题，提高垂直连续电镀设备的镀铜效果。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图，其中：

图1是本申请提供的导电铜排的第一实施例的结构示意图；

图2是图1的导电铜排的左视图；

图3是本申请提供的导电铜排的第二实施例的结构示意图；