[发明专利]一种智能防护窄带滤光片

权利要求书

1.一种智能防护窄带滤光片，其特征在于，包括基底和形成在基底上的双腔或多腔窄带滤光薄膜，所述双腔或多腔窄带滤光薄膜的膜系结构为：Sub|L(HL)^m nH(LH)^m L(HL)^m(n-x)H xV(LH)^m L H L|Air或Sub|L H(LH)^m nL(HL)^m H L H(LH)^m(n-x)L xV(HL)^mH L H L|Air，其中中心波长λ_i范围为200nm-5000nm，m的范围为2～12，n的范围为2～16且为偶数，x的范围为0～1，H为高折射率薄膜材料，L为低折射率薄膜材料，V为相变薄膜材料。

2.如权利要求1所述的智能防护窄带滤光片，其特征在于，所述基底选择熔融石英、K9玻璃或有色玻璃。

3.如权利要求2所述的智能防护窄带滤光片，其特征在于，所述高折射率薄膜材料选择Ta₂O₅或HfO₂或TiO₂，低折射率薄膜材料选用SiO₂，相变薄膜材料选用VO₂或V₂O₅。

4.一种智能防护窄带滤光片的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1：选择窄带滤光片的基底材料；

S2：选择高折射率薄膜材料、低折射率薄膜材料和相变薄膜材料；

S3：在基底上设计双腔或多腔滤光薄膜，其中1个间隔层采用高或低折射率材料+相变薄膜材料共同实现。

5.如权利要求4所述的智能防护窄带滤光片的制备方法，其特征在于，所述步骤S1中，选择熔融石英、K9玻璃或有色玻璃作为基底材料。

6.如权利要求5所述的智能防护窄带滤光片的制备方法，其特征在于，所述步骤S2中，选择Ta₂O₅或HfO₂或TiO₂为高折射率薄膜材料，SiO₂为低折射率薄膜材料，VO₂或V₂O₅为相变薄膜材料。

7.如权利要求6所述的智能防护窄带滤光片的制备方法，其特征在于，所述步骤S3中，双腔或多腔滤光薄膜的中心波长为λ_i，单位为nm，膜系结构为：Sub|L(HL)^m nH(LH)^m L(HL)^m(n-x)H xV(LH)^m L H L|Air或Sub|L H(LH)^m nL(HL)^m H L H(LH)^m(n-x)LxV(HL)^m H L H L|Air，其中λ_i范围为200nm-5000nm，m的范围为2～12，n的范围为2～16且为偶数，x的范围为0～1，H为高折射率薄膜材料，L为低折射率薄膜材料，V为相变薄膜材料。

8.如权利要求7所述的智能防护窄带滤光片的制备方法，其特征在于，所述步骤S1中，选择熔融石英作为1064nm窄带滤光片的基底材料。

9.如权利要求8所述的智能防护窄带滤光片的制备方法，其特征在于，所述步骤S2中，选择Ta₂O₅为高折射率薄膜材料，SiO₂为低折射率薄膜材料，V₂O₅为相变薄膜材料，Ta₂O₅薄膜和SiO₂薄膜在1064nm波长处的折射率分别为2.080和1.460，V₂O₅薄膜相变前在1064nm波长处的折射率和消光系数分别为1.921和0.009，V₂O₅薄膜相变后在1064nm波长处的折射率和消光系数分别为1.951和3.283。

10.如权利要求9所述的智能防护窄带滤光片的制备方法，其特征在于，所述步骤S3中，设计双腔窄带滤光薄膜，中心波长为1064nm，膜系结构为：Sub|L(HL)^44H(LH)^4L(HL)^43.93H 0.07M(LH)^4L H L|Air，H为高折射率Ta₂O₅薄膜材料，L为低折射率SiO₂薄膜材料，V为相变V₂O₅薄膜材料，V层的物理厚度为10nm，光学厚度为0.07的四分之一光学厚度。