[发明专利]消光型微弱荧光检测系统

权利要求书

1.一种消光型微弱荧光检测系统，其特征在于，包括：激发光光路、遮光壳体以及设置在所述遮光壳体内的荧光收集透镜、主二向色镜、副二向色镜、带通滤光片、汇聚透镜、光电转换探测器、锥面消光器；

所述激发光光路发出的激发光呈平行状态入射到所述主二向色镜上后一部分被反射至所述荧光收集透镜，再经所述荧光收集透镜汇聚后照射到样品中，入射到主二向色镜上的激发光中的另一部分透过所述主二向色镜后照射到所述锥面消光器上，被分散吸收；

样品被激发产生的荧光经所述荧光收集透镜准直后依次透过所述主二向色镜、副二向色镜，再经所述带通滤光片滤光后由所述汇聚透镜汇聚至所述光电转换探测器上；

部分被样品散射的激发光进入所述荧光收集透镜被准直后作为一次激发光照射到所述主二向色镜上，一次激发光中的一部分被所述主二向色镜反射而射出所述遮光壳体，另一部分透过所述主二向色镜作为二次激发光照射到所述副二向色镜上；二次激发光中的一部分被所述副二向色镜反射至所述锥面消光器上，被分散吸收，另一部分透过所述副二向色镜作为三次激发光照射到所述带通滤光片上；三次激发光中的一部分被所述带通滤光片反射、再经所述副二向色镜反射至遮光壳体的内壁上，被吸收，另一部分透过所述带通滤光片作为四次激发光经所述汇聚透镜汇聚至所述光电转换探测器上。

2.根据权利要求1所述的消光型微弱荧光检测系统，其特征在于，所述主二向色镜和副二向色镜均为低反高通的干涉型滤光片，两者对激发光的反射率均为99％±0.5％；

所述带通滤光片对激发光的透过率为1％±0.5％。

3.根据权利要求1所述的消光型微弱荧光检测系统，其特征在于，所述主二向色镜和副二向色镜均为低反高通的干涉型滤光片，两者对激发光的反射率均为99％；

所述带通滤光片对激发光的透过率为1％。

4.根据权利要求2所述的消光型微弱荧光检测系统，其特征在于，其中，入射到主二向色镜上的激发光中的1％±0.5％透过所述主二向色镜后照射到所述锥面消光器上，被分散吸收；

一次激发光中的1％±0.5％透过所述主二向色镜作为二次激发光照射到所述副二向色镜上，二次激发光中的1％±0.5％透过所述副二向色镜作为三次激发光照射到所述带通滤光片上，三次激发光中的1％±0.5％透过所述带通滤光片作为四次激发光经所述汇聚透镜汇聚至所述光电转换探测器上。

5.根据权利要求3所述的消光型微弱荧光检测系统，其特征在于，其中，入射到主二向色镜上的激发光中的1％透过所述主二向色镜后照射到所述锥面消光器上，被分散吸收；

一次激发光中的1％透过所述主二向色镜作为二次激发光照射到所述副二向色镜上，二次激发光中的1％透过所述副二向色镜作为三次激发光照射到所述带通滤光片上，三次激发光中的1％透过所述带通滤光片作为四次激发光经所述汇聚透镜汇聚至所述光电转换探测器上。

6.根据权利要求1-5中任意一项所述的消光型微弱荧光检测系统，其特征在于，所述遮光壳体具有黑色的内外表面。

7.根据权利要求6所述的消光型微弱荧光检测系统，其特征在于，所述锥面消光器包括底座及设置在所述底座上的消光锥阵列，所述消光锥阵列处于所述遮光壳体内壁的侧部。

8.根据权利要求7所述的消光型微弱荧光检测系统，其特征在于，所述消光锥阵列中的消光锥的中线与所述激发光光路发出的激发光平行，且所述激发光光路发出的激发光中透过所述主二向色镜的部分可直接照射到所述消光锥阵列上。

9.根据权利要求8所述的消光型微弱荧光检测系统，其特征在于，所述锥面消光器通过固定框安装在所述遮光壳体上，所述遮光壳体上开设有供所述消光锥阵列插入的安装孔，且所述底座的底部设置有与所述固定框配合的台阶。

10.根据权利要求9所述的消光型微弱荧光检测系统，其特征在于，所述锥面消光器采用金属材料，所述消光锥阵列通过利用线切割工艺在金属体上切削加工而成，每个消光锥均有4个锥面，相邻的消光锥之间形成吸光沟道；整个所述锥面消光器的表面采用氧化发黑处理为黑色。