[发明专利]制备全生物降解地膜的专用料及其制备的全降解地膜及该地膜制备方法

权利要求书

1.一种制备全生物降解地膜的专用料，其特征在于：

由如下重量份原料组成：PBAT 40～80、PBS 1～30、PPC 0～20、滑石粉0.1～20、润滑剂0.1～5、纳米活性碳酸钙0.1～30、纳米二氧化硅0.1～5、SMA 0.1～5、相容剂0.01～1；

制备全生物降解地膜的专用料通过以下步骤制备：

(1)、热烘脱水：将PBAT、PPC、黑色母粒50～80℃热烘至含水率0.05％以下，热烘时间0～5h；

(2)、物料混合：将PBAT、PBS、PPC、滑石粉、纳米活性碳酸钙、润滑剂、相容剂、SMA按照配比投入高混机内，按照500～1000r/min混合50～120s，1000～2000r/min混合0～60s混合均匀；

所述滑石粉、纳米活性碳酸钙需要预先热处理，即将滑石粉、活性碳酸钙在60～110℃热烘至含水率0.05％以下，热烘时间0～3h，之后再降温至室温；

(3)、挤出造粒：将混合物料投入双螺杆挤出机，挤出温度160℃～185℃，制得全生物降解地膜的专用料。

2.根据权利要求1所述的制备全生物降解地膜的专用料，其特征在于：所述的PBS熔指在15～25g/10min。

3.根据权利要求1所述的制备全生物降解地膜的专用料，其特征在于：所述的PBAT熔指在2～6g/10min，端羧基＜25。

4.根据权利要求1所述的制备全生物降解地膜的专用料，其特征在于：所述的滑石粉、纳米活性碳酸钙、纳米二氧化硅粒径＜5μm。

5.根据权利要求1所述的制备全生物降解地膜的专用料，其特征在于：

所述的相容剂由环氧型相容剂、过氧型相容剂、异氰酸酯类相容剂其中一种或多种按照任意配比混合；

或者，所述的润滑剂由液体石蜡、色拉油、硬脂酸单甘脂、聚乙烯蜡其中一种或多种按照任意配比混合。

6.根据权利要求1所述的制备全生物降解地膜的专用料，其特征在于：原料还包含黑色母粒0.1～10、紫外吸收剂0.1～5、光稳定剂0.1～5、抗氧剂0.1～5；

所述黑色母粒为炭黑和PBAT按照重量比1：1～10的比例混合并挤出得到；

所述的抗氧剂由抗氧剂1010、抗氧剂168、抗氧剂264、抗氧剂1076、抗氧剂B215、抗氧剂B225其中一种或多种按照任意配比混合；

或者，所述的紫外吸收剂由UV531、UV234、UV326、UV327、UV328、UV329、UV1130其中一种或多种按照任意配比混合；

或者，所述的光稳定剂由光稳定剂770、光稳定剂944、光稳定剂622、光稳定剂2002、光稳定剂783、光稳定剂2020其中一种或多种按照任意配比混合。

7.根据权利要求1所述的制备全生物降解地膜的专用料，其特征在于：步骤(3)挤出造粒得到的专用料直径2～3.5mm，长度2.5～3.5mm。

8.一种由含PBS增强的高强度颗粒制备的全生物降解地膜，其特征在于：使用如权利要求1～6任意权利要求所制备得到的制备全生物降解地膜的该专用料投入吹膜机进料口，螺杆温度120℃～190℃，三通温度140～190℃，模头加工温度140～190℃。

9.一种全生物降解地膜的制备方法，其特征在于：

选择重量份原料：PBAT 40～80、PBS 1～30、PPC 0～20、滑石粉0.1～20、润滑剂0.1～5、纳米活性碳酸钙0.1～30、纳米二氧化硅0.1～5、黑色母粒0.1～10、紫外吸收剂0.1～5、光稳定剂0.1～5、抗氧剂0.1～5、SMA 0.1～5、相容剂0.01～1；

所述黑色母粒为炭黑和PBAT按照重量比1：1～10的比例混合并挤出得到；

制备步骤如下：

(1)、热烘脱水：将PBAT、PPC、黑色母粒58℃热烘至含水率0.05％以下，热烘时间0～5h；

(2)、物料混合：将PBAT、PBS、PPC、滑石粉、纳米活性碳酸钙、润滑剂、抗氧剂、交联剂、色母粒、紫外吸收剂、光稳定剂、相容剂、SMA按照配比投入高混机内，按照500-1000r/min混合50-120s，1000-2000r/min混合0-60s混合均匀；

所述滑石粉、纳米活性碳酸钙需要预先热处理，即将滑石粉、活性碳酸钙在60-110℃热烘至含水率0.05％以下，热烘时间0-3h，再冷却至室温；

(3)、挤出造粒：将混合物料投入双螺杆挤出机，挤出温度160℃～185℃，制得全生物降解地膜的专用料；

(4)、吹膜：将步骤(3)制备得到的物料投入吹膜机，螺杆温度120℃～190℃，三通温度140～190℃，模头加工温度140～190℃，吹膜厚度7～15μm；

所述的PBS熔指在15～25g/10min；

所述的PBAT熔指在2～6g/10min，端羧基＜25；

所述的滑石粉、纳米活性碳酸钙、纳米二氧化硅粒径＜5μm；

所述的抗氧剂由抗氧剂1010、抗氧剂168、抗氧剂264、抗氧剂1076、抗氧剂B215、抗氧剂B225其中一种或多种按照任意配比混合；

所述的紫外吸收剂由UV531、UV234、UV326、UV327、UV328、UV329、UV1130其中一种或多种按照任意配比混合；

所述的光稳定剂由光稳定剂770、光稳定剂944、光稳定剂622、光稳定剂2002、光稳定剂783、光稳定剂2020其中一种或多种按照任意配比混合；

所述的相容剂由环氧型相容剂、过氧型相容剂、异氰酸酯类相容剂其中一种或多种按照任意配比混合；

所述的润滑剂由液体石蜡、色拉油、硬脂酸单甘脂、聚乙烯蜡其中一种或多种按照任意配比混合。