[发明专利]一种防除冰可穿戴薄膜、制备方法及其应用

权利要求书

1.一种防除冰可穿戴薄膜，其特征在于，所述薄膜由疏水性高分子聚合物材料、固化剂与光热材料按比例配制固化而成,薄膜表面构筑有锥状凹坑的结构阵列,所述锥状凹坑结构尺度为微米级，在薄膜表面呈多边形阵列均匀分布，所述锥状凹坑结构阵列由激光直写技术构筑而成，所述凹坑间距为15-25μm，凹坑直径为15-20μm，凹坑深度为5-15μm；所述薄膜厚度为0.5-2mm。

2.根据权利要求1所述的防除冰可穿戴薄膜，其特征在于：所述疏水性高分子聚合物材料、固化剂、光热材料的质量比为200-2000：16-240:1。

3.根据权利要求1或2所述的防除冰可穿戴薄膜，其特征在于：所述的疏水性高分子聚合物材料为聚二甲基硅氧烷；所述光热材料为迈克烯、石墨烯、碳纳米管或四氧化三铁。

4.一种根据权利要求1-3所述的防除冰可穿戴薄膜的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

S1、取质量比为200-2000：16-240:1的疏水性高分子聚合物材料、固化剂、光热材料，然后由搅拌机搅拌混合均匀，得到混合物；

S2、将混合均匀后的混合物倒入平底陶瓷容器中，然后放置在真空干燥箱中进行抽真空处理，去除混合物中的气泡；

S3、将真空处理后的混合物进行固化，获得表面平整的薄膜；

S4、利用激光对固化完成的薄膜表面进行凹坑阵列的构筑，获得表面分布有锥状凹坑阵列的薄膜。

5.根据权利要求4所述的防除冰可穿戴薄膜的制备方法，其特征在于：所述步骤S1搅拌过程中的搅拌转速为80-150转每分钟，搅拌时间为60-120分钟。

6.根据权利要求4所述的防除冰可穿戴薄膜的制备方法，其特征在于：所述步骤S2中的真空干燥箱参数设定压强为(-0.08)-(-0.1)MPa，温度为18-25℃，处理时间为5分钟；所述步骤S2中的抽真空处理重复进行3-5次。

7.根据权利要求4所述的防除冰可穿戴薄膜的制备方法，其特征在于：所述步骤S3中的固化处理是将经步骤S2处理后的混合物置于干燥箱中，干燥箱参数设定温度为55-80℃，处理时间为100-150分钟。

8.根据权利要求4所述的防除冰可穿戴薄膜的制备方法，其特征在于：所述步骤S4中激光的激光光束垂直于薄膜表面进行扫描；所述激光的光斑直径为10-20μm，脉冲能量为3-8mW,单点扫描时间为20000-40000μs,扫描线间距为15-25μm。

9.一种根据权利要求1-3所述的防除冰可穿戴薄膜在基体表面的应用，其特征在于：将表面分布有锥状凹坑阵列的薄膜粘贴在需要进行防除冰处理的基体表面，实现其防除冰的应用。

10.根据权利要求9所述的应用，其特征在于：所述的基体表面是玻璃、陶瓷、金属、木材或固体聚合物的表面。