[发明专利]一种无硼、无磷高稳定性的离子筛及其应用

权利要求书

1.一种无硼、无磷高稳定性的离子筛，其特征在于，基于氧化物的mol%计，第一金属氧化物为30mol%~50mol%，SiO₂为26mol%~50mol%，Al₂O₃为8mol%~25mol%；其中，SiO₂+Al₂O₃的mol%大于50%，且大于第一金属氧化物；氧化磷和氧化硼的含量低于300ppm或更少；其中，所述第一金属氧化物为氧化钠或氧化钾。

2.根据权利要求1所述无硼、无磷高稳定性的离子筛，其特征在于，所述Al₂O₃含量大于10mol%，并且Al₂O₃/第一金属氧化物摩尔比大于0.2。

3.根据权利要求1所述无硼、无磷高稳定性的离子筛，其特征在于，所述Al₂O₃的含量为10mol%~23mol%。

4.根据权利要求1、2或3所述无硼、无磷高稳定性的离子筛，其特征在于，还包含氧化镁、氧化钙和/或氧化锌的第二金属氧化物，其摩尔百分含量不超过5mol%。

5.一种无硼、无磷高稳定性的离子筛的制备方法，其特征在于，按权利要求1~4任一离子筛组分配料，然后于1000℃~1500℃之间进行熔炼形成液态状，再制成颗粒状、片状或多孔状。

6.根据权利要求5所述无硼、无磷高稳定性的离子筛的制备方法，其特征在于，通过水淬形成颗粒状离子筛；其中水淬温度为10℃~80℃，所述离子筛颗粒为1mm~10mm。

7.根据权利要求5所述无硼、无磷高稳定性的离子筛的制备方法，其特征在于，通过外力压延或拉制成片状离子筛；所述片状离子筛其厚度在0.3mm~1mm。

8.根据权利要求5所述无硼、无磷高稳定性的离子筛的制备方法，其特征在于，通过投入发泡剂制成多孔状离子筛；所述多孔离子筛孔为碎块状，孔径为1mm~10mm，多孔离子筛块直径为其最短边至少为0.5cm，最大边小于10cm。

9.根据权利要求7所述无硼、无磷高稳定性的离子筛的制备方法，其特征在于，所述片状离子筛为不规则片状，其最短边至少为0.3cm，最大边小于20cm。

10.无硼、无磷高稳定性的离子筛的应用，其特征在于，如权利要求6~9所述方法获得的无硼、无磷高稳定性的离子筛用于对微晶玻璃的化学强化；采用的盐浴为至少含有钾或钠的盐浴，或混合盐浴；强化时间为在相同化学强化温度、相同盐浴下达到CTmax的时间点T的80%~150%。

11.根据权利要求10所述无硼、无磷高稳定性的离子筛的应用，其特征在于，所述盐浴为硝酸钠或/和硝酸钾，提纯温度为430℃~650℃，强化时间4h~24h。

12.根据权利要求11所述无硼、无磷高稳定性的离子筛的应用，其特征在于，所述提纯温度为430℃~480℃，强化时间12h~24h。