[发明专利]光处理组件、ToF发射装置以及ToF深度信息探测器

权利要求书

1.一光处理组件，适于一发射光源，其中所述发射光源用于发射一探测光至一目标视场，其特征在于，其中所述发射光源包括多个光源单元，并且各所述光源单元被按照预定的时序点亮，其中所述光处理组件包括：

至少一光整形器，其中所述至少一光整形器被配置，用于对所述发射光源的各个所述光源单元发射的探测光进行光束整形，以收窄该探测光的发散角度，并将各个该探测光的中心传播方向导向分区预设的中心角度；和

一匀光器，其中所述匀光器为基于微透镜阵列的折射型匀光片，并且所述匀光器被配置，使所述匀光器适于选择性地被配置在所述光整形器的光路前方或光路后方，用于匀化各个所述光源单元发射的该探测光，并向外投射该探测光形成一目标视场区间，其中所述匀光器的匀光角用于调整该探测光的照射范围，以在所述目标视场内形成连续均匀的照明区域；

其中所述匀光器包括多个匀光单元，其中各所述匀光单元用于匀化对应的所述光源单元所发射的该探测光；

其中所述匀光器的所述匀光单元的匀光角满足以下关系：

其中，θ_H和θ_V分别表示所述匀光器的各个匀光单元在第一方向和第二方向上的匀光角；N_x和N_y分别为所述发射光源的所述光源单元在第一方向和第二方向上的数量；W和H分别为所述发射光源的所述光源单元在第一方向和第二方向上的尺寸；x和y分别为相邻的所述光源单元在第一方向和第二方向上的间隔距离；FOV_H和FOV_V分别为在第一方向和第二方向上的总视场角；i和j分别为所述光源单元在第一方向和第二方向上的分区序号。

2.如权利要求1所述的光处理组件，其中，所述匀光器的所述匀光单元的匀光角等于第一角度与第二角度之差，其中所述第一角度为相邻的所述光源单元发出的探测光在经过所述光处理组件处理后形成的相邻照明区域之间不产生间隙所需的最小照明角度；其中所述第二角度为所述光源单元发出的探测光仅经过所述光整形器的整形后形成的照明角度。

3.如权利要求1所述的光处理组件，其中，所述光整形器的焦距满足以下关系：

其中，N_x和N_y分别为所述发射光源的所述光源单元在第一方向和第二方向上的数量；W和H分别为所述发射光源的所述光源单元在第一方向和第二方向上的尺寸；x和y分别为相邻的所述光源单元在第一方向和第二方向上的间隔距离；FOV_H和FOV_V分别为在第一方向和第二方向上的总视场角。

4.如权利要求1所述的光处理组件，其中，所述匀光器包括一整片匀光片，以用于匀化所述发射光源所发射的所有探测光。

5.如权利要求1至4中任一所述的光处理组件，其中，所述光整形器适于被设置于所述匀光器和所述发射光源之间，用于使所述发射光源发射的该探测光在被所述光整形器预整形后投射至所述匀光器。

6.如权利要求1至4中任一所述的光处理组件，其中，所述匀光器适于被设置于所述发射光源和所述光整形器之间，用于使所述发射光源发射的该探测光在被所述匀光器匀化后投射至所述光整形器。

7.如权利要求1至4中任一所述的光处理组件，其中，所述光整形器和所述匀光器是两个独立的部件或形成一个整体的部件。

8.如权利要求1或2所述的光处理组件，其中，所述光整形器具有一光入射面和一光出射面，其中所述匀光器的各所述匀光单元被设置于所述光整形器的所述光出射面。

9.如权利要求8所述的光处理组件，其中，所述匀光器的所述匀光单元通过压印的方式被设置于所述光整形器的所述光出射面。