[发明专利]一种具有光催化自清洁性能的聚偏氟乙烯混合基质膜及其制备方法与应用

权利要求书

1.一种具有光催化自清洁性能的聚偏氟乙烯混合基质膜的制备方法，其特征在于，该方法包括：将SnO₂-Cu₂O纳米复合材料与聚偏氟乙烯混合并配制得到铸膜液，之后通过非溶剂致相分离法即制得聚偏氟乙烯混合基质膜。

2.根据权利要求1所述的具有光催化自清洁性能的聚偏氟乙烯混合基质膜的制备方法，其特征在于，所述的SnO₂-Cu₂O纳米复合材料的制备方法包括：将铜盐、锡盐及盐酸配制成混合溶液，并调节pH至7-12，之后加入还原剂并在室温下进行反应，所得产物依次经过离心、洗涤、干燥、煅烧过程后，即得到所述的SnO₂-Cu₂O纳米复合材料。

3.根据权利要求2所述的具有光催化自清洁性能的聚偏氟乙烯混合基质膜的制备方法，其特征在于，所述的铜盐包括氯化亚铜，所述的锡盐包括氯化亚锡；

所述的铜盐与锡盐的摩尔比为(1-4):(0.1-2)；

所述的盐酸的加入量为10-30mL/mol Cu，盐酸浓度为30-40mol/L；

所述的混合溶液的配制方法包括：将铜盐、锡盐及盐酸加入至去离子水中，并超声15-45min；

所述的还原剂包括水合肼，所述的水合肼的加入量为10-30mL/mol Cu；

还原反应中，反应时间为1-4h。

4.根据权利要求2所述的具有光催化自清洁性能的聚偏氟乙烯混合基质膜的制备方法，其特征在于，所述的洗涤过程中，洗涤剂为乙醇；

所述的干燥过程包括在40-80℃下真空干燥；

所述的煅烧过程中，煅烧气氛包括氩气，煅烧温度为100-400℃，煅烧时间为1-4h。

5.根据权利要求1所述的具有光催化自清洁性能的聚偏氟乙烯混合基质膜的制备方法，其特征在于，所述的铸膜液的制备方法包括：将SnO₂-Cu₂O纳米复合材料、致孔剂及聚偏氟乙烯加入至N,N-二甲基甲酰胺中并搅拌均匀，静置脱泡后即得到所述的铸膜液。

6.根据权利要求5所述的具有光催化自清洁性能的聚偏氟乙烯混合基质膜的制备方法，其特征在于，所述的致孔剂包括聚乙烯吡咯烷酮；

所述的SnO₂-Cu₂O纳米复合材料、致孔剂及聚偏氟乙烯的质量比为(0.1-1.6):1:(14-20)；

搅拌过程中，搅拌温度为30-80℃，搅拌时间为8-18h。

7.根据权利要求1所述的具有光催化自清洁性能的聚偏氟乙烯混合基质膜的制备方法，其特征在于，所述的非溶剂致相分离法包括：将铸膜液刮涂于基板上，并置于凝胶浴中进行分相，即得到所述的聚偏氟乙烯混合基质膜。

8.根据权利要求7所述的具有光催化自清洁性能的聚偏氟乙烯混合基质膜的制备方法，其特征在于，所述的刮膜厚度为100-260μm；

所述的凝胶浴包括乙醇与水以体积比(0.5-1.5):(0.8-1.3)组成的混合溶液，凝胶浴温度为14-30℃。

9.一种具有光催化自清洁性能的聚偏氟乙烯混合基质膜，其特征在于，采用如权利要求1至8任一项所述的方法制备而成。

10.一种如权利要求9所述的聚偏氟乙烯混合基质膜在抗有机污染物中的应用。