[发明专利]一种酸性多表面清洗剂

说明书

本发明公开了一种酸性多表面清洗剂，按质量百分数，包括0.02％～2％的非离子表面活性剂、0.02％～2％的阴离子表面活性剂、0.02％～2％的Bola表面活性剂、1％～20％的有机酸和余量的水，所述Bola表面活性剂的结构通式为：其中，R₁为C₈～C₂₀的亚烷基，R₂为氢原子、烷基或杂烷基，M为碱金属。该清洗剂具有良好的去污能力，且使用弱酸对设备无腐蚀。

技术领域

本发明涉及清洗剂技术领域，特别涉及一种酸性多表面清洗剂。

背景技术

对于仪器设备来说，通常具有金属、玻璃等不同材质的表面，仪器设备在使用一段时间后，在这些表面可能会形成不同的污垢，这些污垢包括无机盐和油渍等，污垢的存在可能会造成仪器设备的使用性能下降以及处理能力降低。目前常用的污垢清洗方法通常有物理清洗和化学清洗两种，而物理清洗又主要有水力清洗、气-液脉冲法、反冲洗法、超声波清洗法、机械清洗法及负压清洗法；当污染比较严重时，采用物理清洗方法已不能恢复通量时，通常需要采用化学方法清洗。化学清洗本质上是污染物与清洗剂之间的一个多相反应，传统的化学清洗法是酸碱交替清洗，对污染特别严重的采用强碱和氧化剂(如次氯酸钠)组合清洗，但使用次氯酸钠或强碱清洗会对仪器设备本身的性能有一定的影响，在一定程度上会缩短仪器的使用寿命。因此，有必要研发一种对仪器设备无腐蚀，且能够有效清洗各种仪器设备的酸性清洗剂。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于克服现有技术的上述不足，提供一种去污效果好的酸性多表面清洗剂。

其所要解决的技术问题可以通过以下技术方案来实施。

一种酸性多表面清洗剂，其特点为：

按质量百分数，包括0.02％～2％的非离子表面活性剂、0.02％～2％的阴离子表面活性剂、0.02％～2％的Bola表面活性剂、1％～20％的有机酸和余量的水，所述Bola表面活性剂的结构通式为：

其中，R₁为C₈～C₂₀的亚烷基，R₂为氢原子、烷基或杂烷基，M为碱金属。

进一步地，按质量百分数，包括0.2～1％的非离子表面活性剂、0.4～2％的阴离子表面活性剂、0.1％～0.5％的Bola表面活性剂、5～15％的有机酸和余量的水。

优选的，所述非离子表面活性剂的质量分数为0.5％，所述阴离子表面活性剂的质量分数为1.5％，所述Bola表面活性剂的质量分数为0.1％～0.5％，所述有机酸的质量分数为5％，余量为水。

这个条件下的清洗剂的去除无机污垢和油污的综合性能是最好的

进一步地，所述Bola表面活性剂的结构包括：

其中，所述R₁表示C₈～C₂₀的亚烷基，所述M为碱金属。

优选的，所述R₁表示C₈～C₁₂的亚烷基。

优选的，所述M为钠离子。

进一步地，所述Bola表面活性剂的具体包括以下结构：

进一步地，所述非离子表面活性剂为烷基酚聚氧乙烯醚。

进一步地，所述阴离子表面活性剂为烷基硫酸钠和烷基磺酸钠一种或两种。

优选的，所述阴离子表面活性剂为烷基硫酸钠和烷基磺酸钠的混合物。