[发明专利]一种单光路精确测量近远场基准与准直装置有效

专利信息
申请号: 202010965089.0 申请日: 2020-09-15
公开(公告)号: CN112197940B 公开(公告)日: 2022-09-02
发明(设计)人: 王温予;彭宇杰;冷雨欣;吕欣林;冯壬誉;钱俊宇;邵蓓捷 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02;G01B11/27;G01J1/42
代理公司: 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 代理人: 张宁展
地址: 201800 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 单光路 精确 测量 近远场 基准 装置
【权利要求书】:

1.一种单光路精确测量近远场基准与准直装置,其特征在于,包括沿待准直光输入方向依次放置的第一透镜(1)、第二透镜(2)和CCD(3);所述的第二透镜(2)位于第一透镜(1)像方焦点之后,且两透镜共焦,所述的第二透镜(2)的焦点位于CCD(3)的像面之上,所述的第一透镜(1)和第二透镜(2)的光轴与CCD(3)像面的法线平行;

所述的第一透镜(1)的两侧镀有半透半反膜,所述的第二透镜(2)的两侧镀有高透膜。

2.根据权利要求1所述的单光路精确测量近远场基准与准直装置,其特征在于,所述的第一透镜(1)的焦距大于第二透镜(2)的焦距,即所述的第一透镜(1)的像方焦点与第二透镜(2)的物方焦点重合。

3.根据权利要求1所述的单光路精确测量近远场基准与准直装置,其特征在于,所述的半透半反膜其折射率T与反射率R均为50%,所述的高透膜是透过率R98.5%的透射膜。

4.根据权利要求1-3任一所述的单光路精确测量近远场基准与准直装置,其特征在于,所述的第一透镜(1)的待准直光入射侧曲率半径为R1,折射率为n2,空气折射率为n1,该第一透镜(1)的出射侧折射率为R2满足如下公式:

式中,

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