[发明专利]一种以锗为基底45度角倾斜使用的红外宽光谱分色片有效
申请号: | 202010965503.8 | 申请日: | 2020-09-15 |
公开(公告)号: | CN112162340B | 公开(公告)日: | 2022-03-29 |
发明(设计)人: | 蒋林;于天燕;秦杨;刘定权;丛蕊 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海技术物理研究所 |
主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20;G02B1/115 |
代理公司: | 上海沪慧律师事务所 31311 | 代理人: | 郭英 |
地址: | 200083 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基底 45 倾斜 使用 红外 光谱 分色 | ||
1.一种以锗为基底45度角倾斜使用的红外宽光谱分色片,其结构为在锗基底(2)入射面上有具备光谱分光功能的分色膜(1)、在锗基底(2)出射面有宽光谱减反射膜(3),其特征在于:
所述的分色膜(1)的膜系结构为:
基底/M1(0.58N1.16H0.58N)7(0.46N0.92H0.46N)aM2/空气
M1为前匹配层,其结构为:
k1Nk2Hk3Nk4H,
M2为后匹配层,其结构为:
g1Hg2Ng3Hg4Ng5Hg6Ng7Hg8Ng9Hg10Ng11Lg12Ng13Hg14Ng15Lg16N,其中:指数a是第二个反射堆周期数,a取值5或6;N表示光学厚度为λ0/4的硫化锌膜层,H表示光学厚度为λ0/4的锗膜层,L表示光学厚度为λ0/4的氟化镱膜层,λ0为中心波长,k1、k2、k3、k4、g1、g2、g3、g4、g5、g6、g7、g8、g9、g10、g11、g12、g13、g14、g15、g16为各膜层厚度的比例系数;
当a=5时,k1=0.351、k2=1.952、k3=0.573、k4=1.078、g1=0.709、g2=0.867、g3=1.172、g4=1.072、g5=1.339、g6=1.069、g7=0.865、g8=1.121、g9=0.785、g10=0.807、g11=0.694、g12=0.589、g13=0.473、g14==0.388、g15=2.352、g16=0.755;
当a=6时,k1=0.362、k2=1.849、k3=0.605、k4=1.072、g1=0、g2=0.406、g3=1.678、g4=0.926、g5=2.189、g6=1.066、g7=1.313、g8=1.328、g9=0.745、g10=0.273、g11=0.871、g12=0.293、g13=0.602、g14=0.267、g15=2.423、g16=0.649。
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