[发明专利]一种基于光学微带天线非对称集成的二维材料探测器在审

专利信息
申请号: 202010965512.7 申请日: 2020-09-15
公开(公告)号: CN112242456A 公开(公告)日: 2021-01-19
发明(设计)人: 周靖;郭尚坤;余宇;嵇兆煜;代旭;邓杰;陈效双;蔡清元;储泽世;李方哲;兰梦珂 申请(专利权)人: 中国科学院上海技术物理研究所
主分类号: H01L31/101 分类号: H01L31/101;H01L31/0232;H01Q1/22
代理公司: 上海沪慧律师事务所 31311 代理人: 郭英
地址: 200083 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 光学 微带 天线 对称 集成 二维 材料 探测器
【权利要求书】:

1.一种基于光学微带天线非对称集成的二维材料探测器,其特征在于:

所述的探测器结构自下到上依次为金属反射面(1)、介质间隔层(2)、二维活性材料层(3)、源电极(4)、金属栅条集成的漏电极(5);金属栅条集成的漏电极(5)、介质间隔层(2)和金属反射面(1)一起构成光学微带天线;

所述的金属反射面(1)是一层金属反射层,金属反射层的厚度h1不小于电磁波在该金属中趋肤深度的两倍;金属反射面(1)同时可以作为静电栅控石墨烯的栅极;其材质为高导电性的金属;

所述的介质间隔层(2)是一层工作波段透明的介质,介质厚度h2要小于探测波长的四分之一;

所述的二维活性材料(3)为具有原子级纵向尺度的材料;

所述的源电极(4)以及金属栅条集成的漏电极(5),是一层高导电性的金属,金属厚度h3不小于电磁波在该金属中趋肤深度的两倍,通过栅条周期P、栅条线宽W、栅条长度L1和沟道长度L2来确定其结构,其中L1等于L2/2,P为光波长的四分之一到二分之一,W为P的三分之一到二分之一。

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