[发明专利]含聚醚硅结构的低泡防沾污净洗剂及其制备方法和应用

权利要求书

1.含聚醚硅结构的低泡防沾污净洗剂，其特征在于：包括高分子多元酸共聚物，按照重量百分比计，制备所述高分子多元酸共聚物的原料包括10～15%的V形聚二甲基硅氧烷聚氧乙烯醚单丙烯酸酯、20～25%的丙烯酸、5～10%的衣康酸、10～15%的丙烯酰胺、5～10%的甲基丙烯酸磺酸钠、10～15%的马来酸酐和10～15%的乙烯吡咯烷酮；所述V形聚二甲基硅氧烷聚氧乙烯醚单丙烯酸酯的化学结构式如下：

其中，m和n满足m+n=10。

2.根据权利要求1所述的含聚醚硅结构的低泡防沾污净洗剂，其特征在于：所述高分子多元酸共聚物的制备方法如下：

按重量百分比称取原料，将丙烯酸、衣康酸、丙烯酰胺、甲基丙烯酸磺酸钠、马来酸酐和乙烯吡咯烷酮各取其重量的12.5%～25%混合，加入去离子水，升温至50～70℃，保温30～60min，使原料溶解；加入亚硫酸氢钠和过硫酸钾水溶液，升温至70～90℃，维持80～90℃分别滴加过硫酸钾水溶液、剩余所有原料和去离子水的混合物，滴加完后升温至80～100℃反应3～5h；反应完成后降温至40℃以下，加入碱性溶液调pH值至6～7，加水将共聚物的有效含量调至30%后过滤，即得。

3.根据权利要求1所述的含聚醚硅结构的低泡防沾污净洗剂，其特征在于：还包括无磷耐碱螯合分散剂、表面活性剂和去离子水，各原料组分的重量百分比为：14～20%的高分子多元酸共聚物、3～6%无磷耐碱螯合分散剂、3～6%的表面活性剂和70～80%的去离子水。

4.根据权利要求3所述的含聚醚硅结构的低泡防沾污净洗剂，其特征在于：所述表面活性剂采用非离子表面活性剂。

5.根据权利要求3所述的含聚醚硅结构的低泡防沾污净洗剂，其特征在于：所述表面活性剂选自AEO-9、DPR500和DPR600中的任意一种或几种。

6.制备如权利要求1-5任一项所述的含聚醚硅结构的低泡防沾污净洗剂的方法，其特征在于：包括以下步骤：

将高分子多元酸共聚物、无磷耐碱螯合分散剂、表面活性剂和去离子水按重量百分比复配混合，调混合物的pH值至6～7，过滤后即得。

7.根据权利要求6所述的含聚醚硅结构的低泡防沾污净洗剂的制备方法，其特征在于：所述高分子多元酸共聚物的制备方法如下：

按重量百分比称取原料，将丙烯酸、衣康酸、丙烯酰胺、甲基丙烯酸磺酸钠、马来酸酐和乙烯吡咯烷酮各取其重量的12.5%～25%混合，加入去离子水，升温至50～70℃，保温30～60min，使原料溶解；加入亚硫酸氢钠和过硫酸钾水溶液，升温至70～90℃，维持80～90℃分别滴加过硫酸钾水溶液、剩余所有原料和去离子水的混合物，滴加完后升温至80～100℃反应3～5h；反应完成后降温至40℃以下，加入碱性溶液调pH值至6～7，加水将共聚物的有效含量调至30%后过滤，即得。

8.根据权利要求1-5任一项所述的含聚醚硅结构的低泡防沾污净洗剂在纺织品染料染色或染料印花后的洗涤中的应用。