[发明专利]显示装置及其制备方法

权利要求书

1.一种显示装置，其特征在于，包括摄像区以及围绕所述摄像区的非摄像区；

所述显示装置包括显示面板以及摄像头；

所述显示面板包括薄膜晶体管、封装层以及触控层；

所述触控层远离所述封装层的一侧面设有遮光层；触控层还包括：第一无机层，设于所述封装层远离所述薄膜晶体管一侧的表面；第一触控金属层，设于所述第一无机层远离所述封装层一侧的表面；第二无机层，覆盖于所述第一触控金属层；第二触控金属层，设于所述第二无机层远离所述第一触控金属层一侧的表面；以及钝化层，覆盖于所述第二触控金属层；所述遮光层设于所述钝化层内；或，所述遮光层设于所述钝化层远离所述第二无机层一侧的表面；部分第一触控金属层以及部分第二触控金属层与所述遮光层相对设置；

所述遮光层设于所述非摄像区内，且环绕所述摄像区；所述非摄像区包括：摄像边框区，环绕所述摄像区；以及显示区，环绕所述摄像边框区；其中，所述遮光层设于所述摄像边框区内。

2.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，

所述遮光层的厚度小于5毫米。

3.一种显示装置的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供一基板，所述基板上设有薄膜晶体管以及封装层；

在所述封装层的上表面制备出触控层；包括：依次制备出第一无机层、第一触控金属层、第二无机层、第二触控金属层以及钝化层；以及

在所述触控层上制备出遮光层，包括：去除所述触控层顶部的部分钝化层，在去除的钝化层处制备出遮光层；或者，在所述触控层顶部的钝化层的上表面制备出遮光层；

所述显示装置包括摄像区以及围绕所述摄像区的非摄像区；所述遮光层设于所述非摄像区内，且环绕所述摄像区；所述非摄像区包括：

摄像边框区，环绕所述摄像区；以及

显示区，环绕所述摄像边框区；

其中，所述遮光层设于所述摄像边框区内。

4.如权利要求3所述的显示装置的制备方法，其特征在于，制备出遮光层步骤包括：

涂布一层遮光材料；

曝光显影处理所述遮光材料，形成遮光层，所述遮光层为环形。