[发明专利]OLED显示面板制备方法和OLED显示面板

权利要求书

1.一种OLED显示面板制备方法，其特征在于，包括：

提供一衬底基板；

依次在所述衬底基板上形成阵列层、平坦层；

在所述平坦层上形成一导电层，对所述导电层进行图案化处理形成阳极；

在所述阳极上方制备具有遮光性的有机光阻形成一有机光阻层，对所述有机光阻层进行图案化形成位于相邻所述阳极之间的像素定义层；

利用等离子体氟化处理所述像素定义层表面，在所述像素定义层表面形成一疏水层，在所述疏水层下方的所述像素定义层中，氟的含量占碳、氧、氟、氮元素含量的比例不超过百分之八，所述像素定义层中所述氟的含量在远离所述疏水层的方向上依次递减；

在阳极上依次形成发光层、阴极、以及封装层。

2.如权利要求1所述的OLED显示面板制备方法，其特征在于，形成所述像素定义层的步骤还包括：在所述阳极上方制备黑色矩阵材料形成一有机光阻层，对所述有机光阻层进行图案化形成像素定义层。

3.如权利要求1所述的OLED显示面板制备方法，其特征在于，形成所述像素定义层的步骤还包括：在所述阳极上方制备红色色阻材料形成一有机光阻层，对所述有机光阻层进行图案化形成像素定义层。

4.如权利要求1所述的OLED显示面板制备方法，其特征在于，形成所述疏水层的步骤还包括：通入三氟化氮、四氟化碳、六氟化硫中的任一种含氟气体对所述像素定义层表面进行氟化处理，形成一疏水层。

5.如权利要求1所述的OLED显示面板制备方法，其特征在于，形成所述疏水层的步骤还包括：通入三氟化氮、四氟化碳、六氟化硫中的至少两种的混含氟气体对所述像素定义层表面进行氟化处理，形成一疏水层。

6.一种OLED显示面板，其特征在于，包括衬底基板、设置在所述衬底基板上的阵列层、以及设置在所述阵列层上的平坦层，还包括设置在所述平坦层上的阳极、以及设置在相邻阳极之间的像素定义层，在所述阳极上方设置有发光层、阴极、封装层，其中，所述像素定义层的制备材料为遮光材料所述像素定义层上设置有疏水层，在所述疏水层下方的所述像素定义层中，氟的含量占碳、氧、氟、氮元素含量的比例不超过百分之八，所述像素定义层中所述氟的含量在远离所述疏水层的方向上依次递减。

7.如权利要求6所述的OLED显示面板，其特征在于，所述疏水层的疏水材料还设置在像素定义层靠近所述发光层一侧表面。

8.如权利要求7所述的OLED显示面板，其特征在于，所述阵列层包括阵列分布的TFT器件,所述阳极包括一金属膜层,所述金属膜层与所述像素定义层在所述衬底基板上的正投影覆盖所述TFT器件在所述衬底基板上的正投影,所述金属膜层与所述像素定义层用于一同阻挡射向所述TFT器件的反射光。

9.如权利要求8所述的OLED显示面板，其特征在于，所述疏水层位于像素定义层的上表面，所述疏水层至少包括氟元素。