[发明专利]一种对位标记及其制备方法有效
| 申请号： | 202010979393.0 | 申请日： | 2020-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN112071823B | 公开（公告）日： | 2022-07-22 |
| 发明（设计）人： | 卢绍祥;陆聪;陈媛;郭芳芳;李俊文;曾森茂 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | H01L23/544 | 分类号： | H01L23/544;G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆宗力 |
| 地址： | 430074 湖北省武汉*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 对位 标记 及其 制备 方法 | ||
1.一种对位标记，其特征在于，所述对位标记用于多层层叠的功能膜层的对准，所述对位标记包括：
分别位于各层所述功能膜层上的标记图案，所述标记图案的延伸方向与所述标记图案所在的功能膜层的表面平行；
用于固定所有所述标记图案的固定膜层，所述固定膜层的延伸方向与所述功能膜层的表面相交。
2.根据权利要求1所述的对位标记，其特征在于，所述固定膜层与所有所述功能膜层的至少一条侧边固定连接。
3.根据权利要求2所述的对位标记，其特征在于，所述固定膜层与所有所述功能膜层的所有侧边固定连接。
4.根据权利要求1所述的对位标记，其特征在于，所述功能膜层形成过程中的临时结构膜层的刻蚀速率大于所述固定膜层的刻蚀速率，且所述临时结构膜层的刻蚀速率大于所述功能膜层的刻蚀速率。
5.根据权利要求1所述的对位标记，其特征在于，所述标记图案包括覆盖标记图案、光刻对准标记图案和L型对准图案中的至少一种。
6.根据权利要求5所述的对位标记，其特征在于，所述覆盖标记图案包括多条沿第一方向延伸的第一标记和多条沿第二方向延伸的第二标记；
所述第一方向和第二方向均平行于所述功能膜层的表面，且所述第一方向和所述第二方向垂直。
7.一种对位标记的制备方法，其特征在于，包括：
在多层功能膜层的形成过程中，依次形成位于各层所述功能膜层上的标记图案以及用于固定所有所述标记图案的固定膜层；
所述标记图案的延伸方向与所述标记图案所在的功能膜层的表面平行；
所述固定膜层的延伸方向与所述功能膜层的表面相交。
8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述固定膜层与所有所述功能膜层的至少一条侧边固定连接。
9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述固定膜层与所有所述功能膜层的所有侧边固定连接。
10.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，功能膜层形成过程中的临时结构膜层的刻蚀速率大于所述固定膜层的刻蚀速率，且所述临时结构膜层的刻蚀速率大于所述功能膜层的刻蚀速率。
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