[发明专利]用于过程窗口表征的设备和方法

说明书

提供一种获得用于对图案化过程进行质量评定的检查部位的方法，所述方法包括：由一台或更多台计算机，利用多种不同的模拟来模拟所述图案化过程，每一个模拟依据所述图案化过程的不同过程特性，并且每一个模拟应用图案中的特征；针对不同的模拟中的每一个模拟，检测在相应的模拟结果中相应的模拟指示是不可接受的特征；和基于检测到的特征来选择所述特征的子集。

本申请是申请日为2016年12月08日、发明名称为“用于过程窗口表征的设备和方法”、申请号为201680082380.5的专利申请的分案申请。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2015年12月22日递交的美国申请62/270,953的优先权，该美国申请的全部内容以引用的方式并入本文中。

技术领域

本发明整体上涉及图案化过程，更具体地涉及图案化过程的过程窗口表征。

背景技术

图案化过程采取许多形式。示例包括光学光刻术、电子束光刻术、压印光刻术、喷墨打印、定向自组装等。这些过程经常用于制造相对小的非常精细的部件，诸如电学部件(比如集成电路或光伏电池)、光学部件(比如数字反射镜装置或波导)以及机械部件(比如加速度计或微流装置)。

图案化过程经常被表征，用于改善品质或提高良率。经常，来自图案化过程的缺陷可能相对昂贵，这是因为缺陷在已图案化部件的生产运作期间易于被重复或相对频繁地出现。为了减轻这种缺陷，当引入新的图案化过程(或图案化过程的新变形)(诸如新掩模版、图案化工具(或最近服务的工具)、过程选配方案、消耗品或产品)时，制造商经常凭经验对新过程的过程窗口进行表征。过程窗口通常指示：针对图案化过程的一个或更多个特性，所述特性在不引入不可接受的量的缺陷的情况下能够变化多少，例如，在针对空间、电学、光学或其他尺寸的容许度内产生图案化结构的用于光学光刻过程的可接受的聚焦和曝光的范围。

发明内容

以下是本技术的一些方面的非穷举性列举。在以下披露内容中描述了这些和其他方面。

一些方面包括一种对图案化过程的过程窗口进行表征的过程，所述过程包括：获得用于图案的检查部位的集合，所述图案限定利用图案化过程被施加至衬底的特征，所述检查部位的集合对应于所述特征的子集，所述特征的子集是根据相应的特征对所述图案化过程的一个或更多个过程特性的变化的灵敏度而从所述特征之中选择的；依据变化的过程特性对一个或更多个衬底进行图案化；和针对所述过程特性的变化中的每一个变化，在对应的检查部位处确定所述特征的子集中的至少一些是否在所述一个或更多个衬底上产生了不可接受的图案化结构。

一些方面包括一种获得检查部位以使图案化过程合格的过程，该过程包括：由一台或更多台计算机，利用多种不同的模拟来模拟所述图案化过程，每一个模拟依据不同的过程特性，并且每一个模拟利用图案中的相同特征中的至少一些；针对不同的模拟中的每一个，检测相应的模拟指示的在相应的模拟结果中是不可接受的特征；和基于检测到的特征来选择所述特征的子集。

一些方面包括一种用于存储指令的、有形的、非暂时性机器可读介质，所述指令在由数据处理设备执行时使得所述数据处理装置执行包括上文所提及的过程的操作。

一些方面包括一种系统，所述系统包括：一个或更多个处理器；和用于存储指令的存储器，所述指令在由所述处理器执行时使得所述处理器实现上文所提及的过程的操作。

附图说明

当参考以下附图来阅读本申请时，将更好地理解本技术的上文所提及的方面和其他方面，在附图中，相同的附图标记表示相似或相同的元件：

图1是光刻系统的框图；

图2是图案化过程的模拟模型的框图；

图3是用于识别检查部位的过程的流程图；

图4是用于将图案化过程表征的过程的流程图；