[发明专利]一种基于正交结构的X射线抗散射格栅在审
| 申请号： | 202010984309.4 | 申请日： | 2020-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN112089428A | 公开（公告）日： | 2020-12-18 |
| 发明（设计）人： | 沈龙;任安业;龚振邦;刘亮;金红梅;王培军;丁卫;于灜洁;周文静;陈勇 | 申请（专利权）人： | 上海创投机电工程有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00;A61B6/03;G01N23/04;G01V5/00 |
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| 地址： | 201705 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 基于 正交 结构 射线 散射 格栅 | ||
1.一种基于正交结构的X射线抗散射格栅，其特征在于所述的一种基于正交结构的X射线抗散射格栅(2)结构是：由两组相互正交排列的X射线抗散射格栅构成，每一组格栅包括多个由高X射线吸收材料的隔片(2.1)，其由较低X射线吸收性材料(2.2)隔开的格栅，其中高X射线吸收材料的隔片，其由较低X射线吸收性材料薄片相间排列且紧密贴合，形成正交的光栅阵列结构。
2.根据权利要求1所述的一种基于正交结构的X射线抗散射格栅，其特征在于所述的X射线抗散射格栅为平板形状，射线辐射源S至格栅平板P的距离即为焦距，所述的由高X射线吸收材料(2.1)的隔片，其由较低X射线吸收性材料(2.2)薄膜隔开的格栅，其隔片和薄膜各层的平面的排列与处于焦点位置X射线辐射点源发射的射线方向排列一致，同样地，另一组正交排列的格栅的隔片和薄膜按相同原理排列。
3.根据权利要求1所述的一种基于正交结构的X射线抗散射格栅，其特征在于所述的X射线抗散射格栅也可以为球面形状，球面半径即为射线辐射源S至球面G的距离，所述的由高X射线吸收材料(2.1)的隔片，其由较低X射线吸收性材料(2.2)薄膜隔开的格栅，其隔片和薄膜各层的平面的排列与处于焦点位置X射线辐射点源发射的射线方向排列一致。同样地，另一组正交排列的格栅的隔片和薄膜按相同原理要求排列。
4.根据权利要求1所述的一种基于正交结构的X射线抗散射格栅，其特征在于所述的高X射线吸收材料(2.1)的隔片一般是：铅(Lead)、铅铋合金等，较低X射线吸收性材料(2.2)薄膜一般是：铝(Al)、碳纤维(C)和二氧化硅(SiO2)等材料，上、下采用较低X射线吸收性材料(2.2)，如铝板或碳纤维板覆盖封装。
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