[发明专利]一种基于正交结构的X射线抗散射格栅在审

专利信息
申请号: 202010984309.4 申请日: 2020-09-12
公开(公告)号: CN112089428A 公开(公告)日: 2020-12-18
发明(设计)人: 沈龙;任安业;龚振邦;刘亮;金红梅;王培军;丁卫;于灜洁;周文静;陈勇 申请(专利权)人: 上海创投机电工程有限公司
主分类号: A61B6/00 分类号: A61B6/00;A61B6/03;G01N23/04;G01V5/00
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地址: 201705 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 正交 结构 射线 散射 格栅
【权利要求书】:

1.一种基于正交结构的X射线抗散射格栅,其特征在于所述的一种基于正交结构的X射线抗散射格栅(2)结构是:由两组相互正交排列的X射线抗散射格栅构成,每一组格栅包括多个由高X射线吸收材料的隔片(2.1),其由较低X射线吸收性材料(2.2)隔开的格栅,其中高X射线吸收材料的隔片,其由较低X射线吸收性材料薄片相间排列且紧密贴合,形成正交的光栅阵列结构。

2.根据权利要求1所述的一种基于正交结构的X射线抗散射格栅,其特征在于所述的X射线抗散射格栅为平板形状,射线辐射源S至格栅平板P的距离即为焦距,所述的由高X射线吸收材料(2.1)的隔片,其由较低X射线吸收性材料(2.2)薄膜隔开的格栅,其隔片和薄膜各层的平面的排列与处于焦点位置X射线辐射点源发射的射线方向排列一致,同样地,另一组正交排列的格栅的隔片和薄膜按相同原理排列。

3.根据权利要求1所述的一种基于正交结构的X射线抗散射格栅,其特征在于所述的X射线抗散射格栅也可以为球面形状,球面半径即为射线辐射源S至球面G的距离,所述的由高X射线吸收材料(2.1)的隔片,其由较低X射线吸收性材料(2.2)薄膜隔开的格栅,其隔片和薄膜各层的平面的排列与处于焦点位置X射线辐射点源发射的射线方向排列一致。同样地,另一组正交排列的格栅的隔片和薄膜按相同原理要求排列。

4.根据权利要求1所述的一种基于正交结构的X射线抗散射格栅,其特征在于所述的高X射线吸收材料(2.1)的隔片一般是:铅(Lead)、铅铋合金等,较低X射线吸收性材料(2.2)薄膜一般是:铝(Al)、碳纤维(C)和二氧化硅(SiO2)等材料,上、下采用较低X射线吸收性材料(2.2),如铝板或碳纤维板覆盖封装。

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