[发明专利]焦平面芯片介质膜剥离装置及焦平面芯片介质膜剥离方法有效

专利信息
申请号: 202010986869.3 申请日: 2020-09-18
公开(公告)号: CN112071957B 公开(公告)日: 2021-04-20
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 北京智创芯源科技有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/0224;H01L31/101
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 张欣然
地址: 100095 北京市大兴区北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 平面 芯片 介质 剥离 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种焦平面芯片介质膜剥离装置,其特征在于,包括剥离腔(1),所述剥离腔(1)的内腔中设置用于固定芯片的承托板(2),所述承托板(2)与所述剥离腔(1)的底面具有间隙,所述承托板(2)上设置用于使杂质落下的落料孔(21);所述剥离腔(1)内用于盛放剥离溶液,剥离溶液将芯片浸没;

所述剥离腔(1)的上盖上正对芯片的位置设置剥离进气管(11),所述剥离进气管(11)用于竖向正对芯片的上表面吹气,气体从所述剥离腔(1)上开设的排气孔(12)中排出;

所述剥离腔(1)的侧壁上设置循环进气管(13),所述循环进气管(13)用于横向向所述承托板(2)的上表面吹气,使剥离溶液循环流动。

2.根据权利要求1所述的焦平面芯片介质膜剥离装置,其特征在于,所述承托板(2)上贯通设置吸片口(22),真空管(3)的顶端插装在所述吸片口(22)上,所述真空管(3)的底端连接于真空泵,用于将放置在所述吸片口(22)上的芯片吸附固定。

3.根据权利要求2所述的焦平面芯片介质膜剥离装置,其特征在于,所述真空管(3)的底端连接于所述剥离腔(1)的底面,由所述剥离腔(1)底部的抽气装置抽出气体。

4.根据权利要求3所述的焦平面芯片介质膜剥离装置,其特征在于,所述剥离腔(1)密封对接吸气底座(4),所述吸气底座(4)与所述剥离腔(1)的底面形成密闭空腔;

所述吸气底座(4)上设置抽气接口(41),所述抽气接口(41)连接膜片泵抽真空。

5.根据权利要求4所述的焦平面芯片介质膜剥离装置,其特征在于,所述抽气接口(41)设置在所述吸气底座(4)的侧壁上,所述抽气接口(41)与所述吸气底座(4)的底面之间具有间距。

6.根据权利要求1所述的焦平面芯片介质膜剥离装置,其特征在于,所述剥离腔(1)的内腔侧壁上设置承托凸台(14)和上盖凸台(15),所述承托板(2)由所述承托凸台(14)承托限位,所述上盖凸台(15)用于密封承托所述剥离腔(1)的上盖。

7.根据权利要求6所述的焦平面芯片介质膜剥离装置,其特征在于,所述承托板(2)上设置方便抬起的拉手或者在侧边处设置缺口。

8.一种焦平面芯片介质膜剥离方法,应用于权利要求1至7任一项所述的焦平面芯片介质膜剥离装置,其特征在于,包括:

将芯片固定在剥离腔(1)的内腔中设置的承托板(2)上;

向所述剥离腔(1)的内腔中注入剥离溶液,使剥离溶液浸没芯片;

通过所述剥离腔(1)的上盖设置的剥离进气管(11)正对芯片吹气,使气流带动剥离溶液冲击芯片的表面;

还包括从所述剥离腔(1)侧壁上设置的循环进气管(13)向所述承托板(2)的上表面吹气,使剥离溶液循环流动。

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