[发明专利]用于磁流体润滑的摩擦副磁场强度微调装置及其使用方法

权利要求书

1.一种用于磁流体润滑的摩擦副磁场强度微调装置，用于调节永磁体与试样下表面之间的间距，其特征在于，包括用于固定所述试样的外壳体，且外壳体在试样下方形成容纳升降微调装置的容腔，所述升降微调装置包括箱体、箱盖以及丝杠机构；

所述丝杠机构包括丝杠、滑块、由下楔块及上楔块组成的低副斜面机构及固定在箱体底部的导轨机构，所述导轨机构包括下导轨及下导轨上所设与其滑动配合的上导轨，上导轨上方固定有一中部设置有螺纹孔的所述滑块，且所述螺纹孔的方向与滑块的滑动方向一致，滑块上固定有一顶部设置有光滑斜面的所述下楔块，所述箱盖中部开设有与所述上楔块侧面恰好配合的让位槽，所述箱体对应所述螺纹孔在其两侧均开设有通孔，沿着通孔与螺纹孔轴向固定有所述丝杠，且丝杠一端通过端架固定在箱体外侧，一端伸出箱体并固定有手柄；

所述永磁体置于上楔块上，且上楔块与所述永磁体接触部位以及箱体、箱盖均为非导磁性材料。

2.根据权利要求1所述的一种用于磁流体润滑的摩擦副磁场强度微调装置，其特征在于，所述上楔块包括相向且对称设置的定位阶梯，所述永磁体置于定位阶梯的间隙上，且定位阶梯的间隙由下至上逐渐增大。

3.根据权利要求1所述的一种用于磁流体润滑的摩擦副磁场强度微调装置，其特征在于，所述手柄对应的丝杠一端设有锁定孔，且手柄通过锁紧螺钉固定在丝杠端部。

4.根据权利要求1所述的一种用于磁流体润滑的摩擦副磁场强度微调装置，其特征在于，所述手柄紧贴箱体处设置有环形限位槽，且环形限位槽上转动套设有刻度环，所述手柄在环形限位槽边缘处设有主定位槽，刻度环上紧贴手柄的一侧周向均匀开设有从定位槽，所述主定位槽和从定位槽能同时嵌入一定位挡板从而使手柄与刻度环同步转动，刻度环上贴近箱体的一侧周向设有刻度线。

5.根据权利要求1所述的一种用于磁流体润滑的摩擦副磁场强度微调装置，其特征在于，所述下导轨与箱体底部、上导轨与滑块、滑块与下楔块均通过沉头螺钉固定。

6.根据权利要求1所述的一种用于磁流体润滑的摩擦副磁场强度微调装置，其特征在于，所述外壳体包括承载试样的凸台，凸台两侧的外壳体对称开设有用以放置温度模块的矩形槽，且试样两端分别通过螺钉固定在矩形槽两侧的外壳体上。

7.根据权利要求1所述的一种用于磁流体润滑的摩擦副磁场强度微调装置，其特征在于，所述端架为环形框架结构，其通过滚动轴承容置所述丝杠的端部，并且端架对应的箱体处设有定位孔，且端架通过定位钉借助定位孔固定在箱体外侧。

8.根据权利要求6所述的一种用于磁流体润滑的摩擦副磁场强度微调装置，其特征在于，所述外壳体一侧开设恰好与所述端架契合的让位孔。

9.权利要求1-6任一项所述的用于磁流体润滑的摩擦副磁场强度微调装置的使用方法，其特征在于，具体包括步骤：首先，将试样固定于外壳体的顶部，直接承受摩擦磨损实验所施加的载荷，试样与箱盖的距离是固定不变的，通过转动手柄带动丝杠机构使得上楔块升降，从而改变放置于定位阶梯上的永磁体与试样的距离，当试样距离永磁体距离越近时，其所受磁场强度越大，距离越远时，所受磁场强度越小。