[发明专利]一种氧化镓晶片精细研磨液及其制备方法有效
申请号: | 202010996340.X | 申请日: | 2020-09-21 |
公开(公告)号: | CN112322256B | 公开(公告)日: | 2021-12-28 |
发明(设计)人: | 陈政委;赵德刚;范钦明 | 申请(专利权)人: | 北京铭镓半导体有限公司 |
主分类号: | C09K3/14 | 分类号: | C09K3/14 |
代理公司: | 北京维正专利代理有限公司 11508 | 代理人: | 张瑞雪 |
地址: | 101300 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 氧化 晶片 精细 研磨 及其 制备 方法 | ||
1.一种氧化镓晶片精细研磨液,其特征在于,所述研磨液包括氧化铝粉、水和悬浮液,所述氧化铝粉、水、悬浮液的重量比为(2-4):(4-8):(0.5-2);所述悬浮液包括分散剂、悬浮剂、pH调节剂和抗氧化剂,所述悬浮液中分散剂、悬浮剂、pH调节剂、抗氧化剂的重量比为:(0.25-1.75):(4.5-6.5):(0.25-1.75):(0.05-0.5);所述分散剂为聚乙二醇、聚丙二醇中的任意一种或两种;所述悬浮剂为三聚磷酸钠;所述pH调节剂为碱性调节剂;所述抗氧化剂为茶多酚。
2.根据权利要求1所述的一种氧化镓晶片精细研磨液,其特征在于:所述氧化铝粉、水、悬浮液的重量比为(2.5-3.5):(5-7):(0.75-1.5);所述分散剂、悬浮剂、pH调节剂的重量比为(0.5-1.25):(5-5.5):(0.5-1.5)。
3.权利要求1-2中任一所述的一种氧化镓晶片精细研磨液的制备方法,其特征在于,具体包括以下步骤:
(1)先将悬浮液的各原料组分充分混合均匀,然后将悬浮液溶于水中,再将氧化铝粉与溶液混合均匀,得到混合液A;
(2)将步骤(1)获得的混合液A用1000-1500目的筛网过滤,获得混合液B;
(3)将步骤(2)获得的混合液B于频率为25-35kHz、功率为250-350W的超声条件下处理30-45min,即得研磨液。
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