[发明专利]一种氧化镓晶片精细研磨液及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202010996340.X 申请日: 2020-09-21
公开(公告)号: CN112322256B 公开(公告)日: 2021-12-28
发明(设计)人: 陈政委;赵德刚;范钦明 申请(专利权)人: 北京铭镓半导体有限公司
主分类号: C09K3/14 分类号: C09K3/14
代理公司: 北京维正专利代理有限公司 11508 代理人: 张瑞雪
地址: 101300 北京市*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 氧化 晶片 精细 研磨 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种氧化镓晶片精细研磨液,其特征在于,所述研磨液包括氧化铝粉、水和悬浮液,所述氧化铝粉、水、悬浮液的重量比为(2-4):(4-8):(0.5-2);所述悬浮液包括分散剂、悬浮剂、pH调节剂和抗氧化剂,所述悬浮液中分散剂、悬浮剂、pH调节剂、抗氧化剂的重量比为:(0.25-1.75):(4.5-6.5):(0.25-1.75):(0.05-0.5);所述分散剂为聚乙二醇、聚丙二醇中的任意一种或两种;所述悬浮剂为三聚磷酸钠;所述pH调节剂为碱性调节剂;所述抗氧化剂为茶多酚。

2.根据权利要求1所述的一种氧化镓晶片精细研磨液,其特征在于:所述氧化铝粉、水、悬浮液的重量比为(2.5-3.5):(5-7):(0.75-1.5);所述分散剂、悬浮剂、pH调节剂的重量比为(0.5-1.25):(5-5.5):(0.5-1.5)。

3.权利要求1-2中任一所述的一种氧化镓晶片精细研磨液的制备方法,其特征在于,具体包括以下步骤:

(1)先将悬浮液的各原料组分充分混合均匀,然后将悬浮液溶于水中,再将氧化铝粉与溶液混合均匀,得到混合液A;

(2)将步骤(1)获得的混合液A用1000-1500目的筛网过滤,获得混合液B;

(3)将步骤(2)获得的混合液B于频率为25-35kHz、功率为250-350W的超声条件下处理30-45min,即得研磨液。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京铭镓半导体有限公司,未经北京铭镓半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010996340.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top