[发明专利]光学成像系统、取像模组及电子装置在审

专利信息
申请号: 202010997431.5 申请日: 2020-09-21
公开(公告)号: CN112034593A 公开(公告)日: 2020-12-04
发明(设计)人: 杨健;李明 申请(专利权)人: 南昌欧菲精密光学制品有限公司
主分类号: G02B13/00 分类号: G02B13/00;G02B13/18
代理公司: 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 代理人: 陈实顺
地址: 330096 江西省南昌市南昌*** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 光学 成像 系统 模组 电子 装置
【说明书】:

发明公开了一种光学成像系统、取像模组及电子装置。所述光学成像系统由物侧到像侧依次包括:具有正曲折力的第一透镜,第一透镜的物侧面于近光轴处为凸面、像侧面于近光轴处为凹面;具有正曲折力的第二透镜,第二透镜的物侧面于近光轴处为凸面;具有负曲折力的第三透镜,第三透镜的像侧面于近光轴处为凹面;具有曲折力的第四透镜;具有曲折力的第五透镜;具有曲折力的第六透镜;及具有负曲折力的第七透镜;光学成像系统满足以下条件式:0.5(L72p1‑L72p2)/L72c。上述光学成像系统在满足微型设计的同时,增大了焦距,提升了相对亮度,在较暗环境下拍摄也能达到清晰的成像效果,且可用于拍摄远景,提升了放大倍率,并具有虚化背景及突出被摄物体等功能。

技术领域

本发明涉及光学成像技术领域,具体涉及一种光学成像系统、取像模组及电子装置。

背景技术

随着手机、平板电脑、无人机、计算机等电子产品在生活中的广泛应用,各种科技产品逐渐改进并推陈出新,其中,电子产品中取像模组拍摄效果的改进创新成为人们关注的重心之一,也成为了科技改进的一项重要内容。

在实现本申请过程中,发明人发现现有技术中至少存在如下问题:伴随着光电耦合器(CCD,Charge-coupled Device)及互补金属氧化物半导体(CMOS,ComplementaryMetal Oxide Semiconductor)影像感测器等感光元件在性能上的改进,对光学成像系统提出了更高的要求,能否使用光学成像系统拍摄出高画质感、高分辨率、高清晰度的图片,甚至暗光条件下能否拍摄出画质清晰的图片成为现代人选择何种电子产品的关键因素。

发明内容

鉴于以上内容,有必要提出一种光学成像系统、取像模组及电子装置,以解决上述问题。

本申请的一实施例提供了一种光学成像系统,由物侧到像侧依次包括:

具有正曲折力的第一透镜,所述第一透镜的物侧面于近光轴处为凸面、像侧面于近光轴处为凹面;

具有正曲折力的第二透镜,所述第二透镜的物侧面于近光轴处为凸面;

具有负曲折力的第三透镜,所述第三透镜的像侧面于近光轴处为凹面;

具有曲折力的第四透镜;

具有曲折力的第五透镜;

具有曲折力的第六透镜;及

具有负曲折力的第七透镜;

所述光学成像系统满足以下条件式:

0.5(L72p1-L72p2)/L72c;

其中,L72c表示中心光束经过所述第七透镜的像侧面时在垂直于光轴方向上的最大有效口径,所述中心光束为入射至所述光学成像系统的成像面中心的光束;

L72p1表示边缘光束与所述第七透镜像侧面的交点距光轴的最大垂直距离,L72p2表示边缘光束与所述第七透镜的像侧面的交点距光轴的最小垂直距离,所述边缘光束为入射至所述光学成像系统的成像面的离光轴最远点的光束。

上述光学成像系统在满足微型设计的同时,增大了焦距,视场角小于常规光学成像系统,提升了相对亮度,在较暗环境下拍摄也能达到清晰的成像效果,且可用于拍摄远景,提升了放大倍率,并具有虚化背景及突出被摄物体等功能。

在一些实施例中,所述第一透镜、所述第二透镜、所述第三透镜、所述第四透镜、所述第五透镜、所述第六透镜及所述第七透镜均为非球面。

如此,通过调节各透镜表面的曲率半径和非球面系数,有效减小光学成像系统的总长度,且可以有效地校正光学成像系统的像差,提高成像质量。

在一些实施例中,所述光学成像系统满足以下条件式:

TTL/Imgh2.7;

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