[发明专利]基于基频放大的和频产生紫外光装置和方法在审

专利信息
申请号: 202010999737.4 申请日: 2020-09-22
公开(公告)号: CN112134125A 公开(公告)日: 2020-12-25
发明(设计)人: 储玉喜;张萌 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: H01S3/00 分类号: H01S3/00;H01S3/109;H01S3/0941
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 代理人: 刘国威
地址: 300072*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 基于 基频 放大 产生 紫外光 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种基于基频放大的和频产生紫外光装置,其特征是,结构如下:1064nm激光器输出的激光脉冲经过倍频晶体后产生532nm倍频光和剩余的1064nm基频光,所述的532nm倍频光和剩余的1064nm经过双色镜后,532nm倍频光和所述剩余的1064nm分开,532nm倍频光透射,剩余的1064nm基频光反射;所述剩余的1064nm基频光经过所述的双色镜反射后入射到Nd:YVO4晶体,808nm半导体泵浦激光器输出的泵浦光通过双色镜泵浦所述Nd:YVO4晶体,剩余的1064nm基频光经过所述的Nd:YVO4晶体放大后入射到所述的双色镜透射后入射到所述的三倍频晶体;532nm倍频光经过反射镜反射后到达所述的双色镜后反射至所述的三倍频晶体,与放大后的1064nm发生和频效应,产生355nm紫外光;三倍频后剩余的1064nm基频光和三倍频产生的355nm紫外光入射四倍频晶体发生和频效应,产生266nm紫外光。

2.如权利要求1所述的基于基频放大的和频产生紫外光装置,其特征是,1064nm激光器的输出脉宽为皮秒量级或者是纳秒量级。

3.如权利要求1所述的基于基频放大的和频产生紫外光装置,其特征是,所述的倍频晶体为将1064nm倍频至532nm的非线性晶体;所述的三倍频晶体为进行1064nm和532nm和频产生355nm的非线性晶体;所述的四倍频晶体为进行1064nm和355nm和频产生266nm的非线性晶体。

4.一种基于基频放大的和频产生紫外光方法,其特征是,在倍频产生532nm光达到最高效率后,将1064nm基频光分离并进行放大,从而同时得到最大功率的532nm倍频光和1064nm基频光;然后再将532nm倍频光和放大过的1064nm基频光入射到三倍频晶体进行转化;之后将1064nm和三倍频355nm按照一定光子数配比入射到四倍频晶体中产生266nm紫外光。

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