[发明专利]一种阴阳榫的积木式砌块墙体结构在审
申请号: | 202011001734.3 | 申请日: | 2020-09-22 |
公开(公告)号: | CN112177232A | 公开(公告)日: | 2021-01-05 |
发明(设计)人: | 向前勇;何海;任杰;安光文;陈实;付义宏;项军;罗光锐;闫国庆 | 申请(专利权)人: | 贵州开迪绿色建筑材料有限公司;贵州开磷建设集团有限公司 |
主分类号: | E04C1/00 | 分类号: | E04C1/00;E04B2/18 |
代理公司: | 贵州派腾知识产权代理有限公司 52114 | 代理人: | 刘宇宸 |
地址: | 551100 贵州省贵阳市息烽县*** | 国省代码: | 贵州;52 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 阴阳 积木 砌块 墙体 结构 | ||
本发明公开了一种阴阳榫的积木式砌块墙体结构,包括:无阴转角砌块;阴阳转角砌块;无阳转角砌块;阴阳通用砌块;无阴通用砌块;无阳通用砌块;无阴调节砌块;无阳调节砌块;阴阳调节砌块;各个砌块的阳榫和阴槽彼此相互配合组成墙体结构,砌筑墙体结构时时,砌块阴槽在与砌块阳榫的配合导向下快速完成配合,解决了现有技术人工缓慢对准铺浆施工进度低的问题;同时具有阳榫的,砌块的阳榫完全卡合在具有阴槽的,砌块的阴槽内进行限位,保证砌块之间位置的稳定性,能直接降低现有砌块之间需要砂浆的用量,解决了大量倾倒砂粒和水泥出现漂浮的粉尘导致施工环境变差的问题,提供了工人的施工环境,避免工人的身体健康被损害。
技术领域
本发明涉及一种阴阳榫的积木式砌块墙体结构,属于建筑技术领域。
背景技术
随着城镇化和新农村的建设,采用砖块来砌筑墙体的被越来越多的使用,目前在砌筑的墙体大多数是采用表面平整的砖块使用砂浆进行粘结砌筑,砂浆收浆后在砖块之间的会存在厚度为8-10㎜的灰缝,所以在砌筑时需要大量的砂浆,大量的砂浆只能现场搅拌后使用,在搅拌砂浆时,大量倾倒后漂浮子空气的砂粒和水泥颗粒粉尘会导致现场的施工环境变差,损害工人的身体健康;
在砌筑墙体时,需要保证砂浆和砖块构成的墙体横平竖直、砂浆厚薄均匀,由于在使用砖块砌筑时需要人工缓慢对准后才能铺浆,降低了施工进度。
发明内容
为解决上述技术问题,本发明提供了一种阴阳榫的积木式砌块墙体结构。
本发明通过以下技术方案得以实现。
本发明提供的一种阴阳榫的积木式砌块墙体结构,包括:无阴转角砌块,无阴转角砌块右端有通孔;
阴阳转角砌块,阴阳转角砌块前端有通孔,后侧的阴阳转角砌块与左侧的无阴转角砌块上方配合,两者的通孔对其;右侧的阴阳转角砌块与后侧的阴阳转角砌块上方配合,两者的通孔对其;
无阳转角砌块,无阳转角砌块右端有通孔,左侧的无阳转角砌块与右侧的阴阳转角砌块上方反向接触配合,两者的通孔对其;
无阴转角砌块、两个阴阳转角砌块、无阳转角砌块的通孔构成一个可以浇筑的通孔;
位于左侧第一层的无阴转角砌块上方从下自上依次配合阴阳通用砌块、阴阳调节砌块,阴阳调节砌块的顶部与左侧的无阳转角砌块配合;
第二层的阴阳通用砌块的上方从下自上依次配合阴阳通用砌块、无阳通用砌块,第二层的阴阳通用砌块的下方配合无阴通用砌块;无阴通用砌块的上方配合阴阳调节砌块;
第二层后侧的阴阳转角砌块的下方配合无阴通用砌块,后侧的无阴通用砌块的上方从下至上配合阴阳调节砌块、阴阳通用砌块,无阳通用砌块;
第三层右侧的阴阳转角砌块的下方从上至下配合阴阳通用砌块、无阴调节砌块,阴阳转角砌块上方配合无阳通用砌块;第二层右侧的阴阳通用砌块上、下对应配合阴阳通用砌块、无阴通用砌块;第三层右侧的阴阳通用砌块上方配合无阳调节砌块;第一层右侧的无阴通用砌块上方配合阴阳调节砌块。
所述阴阳调节砌块本体上的两相对面对应设有配合安装用的调节阳榫A、调节阴槽A,所述调节阳榫A、调节阴槽A尺寸一致,调节阳榫A过盈或粘接安装在阴阳调节砌块本体上,当不需要调节阳榫A时取下,当调节阳榫A、调节阴槽A都不需要时调节阳榫A配合至调节阴槽A内,便于存放。
所述无阴调节砌的本体上经过盈或粘接安装有配合安装用的调节阳榫B,当不需要调节阳榫B时取下。
所述无阳调节砌块的本体上设有配合安装用的调节阴槽B。
所述无阴转角砌块的一侧设有通孔,另一侧经过盈或粘接安装有配合安装用的转角阳榫A,通孔和转角阳榫A的尺寸相同,当不需要使用时转角阳榫A配合到通孔内,便于存放和运输。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于贵州开迪绿色建筑材料有限公司;贵州开磷建设集团有限公司,未经贵州开迪绿色建筑材料有限公司;贵州开磷建设集团有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011001734.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种防伪镭射膜
- 下一篇:一种防离心污染的干细胞快速离心机