[发明专利]一种图形化材料制备方法有效

专利信息
申请号: 202011008282.1 申请日: 2020-09-23
公开(公告)号: CN112108348B 公开(公告)日: 2022-03-04
发明(设计)人: 李中天 申请(专利权)人: 苏州太阳井新能源有限公司
主分类号: B05D5/06 分类号: B05D5/06;B05D7/24;B05D3/10;B41M5/00
代理公司: 苏州吴韵知识产权代理事务所(普通合伙) 32364 代理人: 王铭陆
地址: 215127 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 图形 材料 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种图形化材料制备方法,其特征在于:包括以下制备步骤:

S1、涂布,在衬底上涂布不溶于水的聚合物,再通过软烘形成单层的涂布层;或,在衬底上涂布至少两次不溶于水的聚合物,衬底每次经涂布后均进行软烘,以此形成叠层的涂布层;所述聚合物含有保护基团;

S2、打印,将含酸溶液打印到所述涂布层上的反应区,所述反应区对应图形化材料中不需要保留的区域;

S3、加热,加热所述反应区中的含酸溶液和聚合物,直至所述反应区中的聚合物失去保护基团后易溶于水;

S4、显影,将所述反应区中失去保护基团的聚合物浸润到显影溶液中,所述涂布层形成图形化材料;

其中,在步骤S1中,每次涂布的聚合物为含有保护基团的聚羟基苯乙烯、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸酯和聚降冰片烯类中的任一种;所述保护基团为4-叔丁基氧基羰基、丙烯酸叔丁酯和乙缩醛中的任一种;

其中,所述含酸溶液包含丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸酯、六氟磷酸、降冰片烯羧酸酯、三环癸烯羧酸酯和四环癸烯羧酸酯中的任一种或几种。

2.根据权利要求1所述的一种图形化材料制备方法,其特征在于:所述涂布层的厚度为3μm-60μm。

3.根据权利要求1所述的一种图形化材料制备方法,其特征在于:所述含酸溶液的pH值范围为0-5。

4.根据权利要求1所述的一种图形化材料制备方法,其特征在于:所述步骤S4中所述显影溶液的显影剂包括季铵类溶液和醇胺类溶液中的一种或几种。

5.根据权利要求1所述的一种图形化材料制备方法,其特征在于:所述步骤S4中所述显影溶液是碱性显影液,该碱性显影液包含氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸钾、碳酸氢钠和碳酸氢钾中的任一种或几种。

6.根据权利要求1至5任一所述的一种图形化材料制备方法,其特征在于:在所述步骤S1中,所述叠层的涂布层的涂布方式为喷涂。

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