[发明专利]荧光X射线分析装置

权利要求书

1.一种荧光X射线分析装置，在该荧光X射线分析装置中，对试样照射一次X射线，根据所产生的二次X射线的测定强度，通过基本参数法，求出下述薄膜的组成和/或厚度的定量值，该试样分别为：通过将单层的薄膜以无基板的方式形成、通过将多层的薄膜以无基板的方式形成、通过将单层的薄膜形成于基板上的方式形成、或通过将多层的薄膜形成于基板上的方式形成，

该荧光X射线分析装置包括：

测定线评价机构，该测定线评价机构针对作为应测定强度的二次X射线的测定线的分析，进行定量误差的推算和/或分析的可否的判断；

显示控制机构，该显示控制机构将通过该测定线评价机构而获得的定量误差和/或分析的可否显示于显示器中，

上述测定线评价机构根据针对上述薄膜而指定的组成和/或厚度，针对已指定的全部的测定线，通过理论强度计算和装置灵敏度计算推算测定强度，

根据以规定量改变该推算测定强度的组中的仅仅一根测定线的推算测定强度的推算测定强度的组，以变化改变推算测定强度的测定线的方式，反复进行通过基本参数法求出推算测定强度变化后的上述薄膜的组成和/或厚度的定量值的步骤，

根据已求出的定量值和上述已指定的组成和/或厚度，进行上述定量误差的推算和/或分析的可否的判断。

2.根据权利要求1所述的荧光X射线分析装置，在该荧光X射线分析装置中，

该测定线评价机构进一步进行最佳的测定线的组合的选择；

该显示控制机构进一步将最佳的测定线的组合显示于显示器中，

上述测定线评价机构根据针对上述薄膜而指定的组成和/或厚度，针对能测定强度的全部的测定线，通过理论强度计算和装置灵敏度计算推算测定强度，

根据能测定上述强度的全部的测定线，制作用于求出上述薄膜的组成和/或厚度的定量值的测定线的组合，

针对该测定线的每个组合，根据以规定量改变于该组合中包含的测定线的上述推算测定强度的组中的仅仅一根测定线的推算测定强度的推算测定强度的组，以变化改变推算测定强度的测定线的方式，反复进行通过基本参数法求出推算测定强度变化后的上述薄膜的组成和/或厚度的定量值的步骤，

根据已求出的定量值和上述已指定的组成和/或厚度，进行上述定量误差的推算和/或分析的可否的判断与最佳的测定线的组合的选择。