[发明专利]基于单目结构光的自检自校准方法及装置在审

专利信息
申请号: 202011010623.9 申请日: 2020-09-23
公开(公告)号: CN112164099A 公开(公告)日: 2021-01-01
发明(设计)人: 户磊;薛远;曹天宇;王亚运;季栋 申请(专利权)人: 北京的卢深视科技有限公司;合肥的卢深视科技有限公司
主分类号: G06T7/33 分类号: G06T7/33;G06T7/37
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 李文清
地址: 100083 北京市海淀区学院*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 基于 结构 自检 校准 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种基于单目结构光的自检自校准方法,其特征在于,包括:

获取单目结构光系统的参考图、物体图和误差阈值范围;

根据所述参考图和所述物体图,确定所述参考图与所述物体图的行对齐误差;

若所述行对齐误差在所述误差阈值范围内,则完成对所述单目结构光系统的自检自校准。

2.根据权利要求1所述的基于单目结构光的自检自校准方法,其特征在于,所述根据所述参考图和所述物体图,确定所述参考图与所述物体图的行对齐误差的步骤,包括:

获取所述参考图的特征点和所述物体图的特征点;

将所述参考图的特征点和所述物体图的特征点进行匹配,获取匹配结果;

根据所述匹配结果,确定所述参考图与所述物体图的行对齐误差。

3.根据权利要求2所述的基于单目结构光的自检自校准方法,其特征在于,所述方法还包括:

若所述行对齐误差不在所述误差阈值范围内,则根据所述匹配结果,确定所述参考图与所述物体图之间的变换矩阵,并基于所述变换矩阵对所述参考图进行变换;

若确定变换后的所述参考图与所述物体图的行对齐误差在所述误差阈值范围内,则完成对所述单目结构光系统的自检自校准。

4.根据权利要求3所述的基于单目结构光的自检自校准方法,其特征在于,所述根据所述匹配结果,确定所述参考图与所述物体图之间的变换矩阵,具体包括:

基于所述匹配结果,计算本质矩阵;

基于所述本质矩阵,求解所述变换矩阵。

5.根据权利要求2-4中任一项所述的基于单目结构光的自检自校准方法,其特征在于,所述将所述参考图的特征点和所述物体图的特征点进行匹配,获取匹配结果,具体包括:

对于所述物体图的每个特征点,在所述参考图中与所述特征点对应的第一预设区域中搜索与所述特征点匹配的第一特征点。

6.根据权利要求5所述的基于单目结构光的自检自校准方法,其特征在于,所述将所述参考图的特征点和所述物体图的特征点进行匹配,获取匹配结果,还包括:

在所述物体图中与所述第一特征点对应的第二预设区域中搜索与所述第一特征点匹配的第二特征点;

若所述第一特征点与所述第二特征点重合,则确定所述特征点与所述第一特征点为有效匹配。

7.一种基于单目结构光的自检自校准装置,其特征在于,包括:处理器,所述处理器包括:

获取模块,用于获取单目结构光系统的参考图、物体图和误差阈值范围;

行对齐误差确定模块,用于根据所述参考图和所述物体图,确定所述参考图与所述物体图的行对齐误差;

自检自校准完成模块,用于若所述行对齐误差在所述误差阈值范围内,则完成对所述单目结构光系统的自检自校准。

8.根据权利要求7所述的基于单目结构光的自检自校准装置,其特征在于,所述装置还包括:散斑投射器和图像传感器;

所述散斑投射器用于投射散斑点;

所述图像传感器用于获取所述散斑点在不同距离处的散斑图像;

相应地,所述处理器还包括:参考图获取模块;所述参考图获取模块用于确定散斑点在不同距离处的散斑图像中的位置信息;基于所述位置信息,确定所述散斑点在无穷远处的散斑图像,并将所述散斑点在无穷远处的散斑图像作为所述参考图。

9.一种电子设备,包括存储器、处理器及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序,其特征在于,所述处理器执行所述程序时实现如权利要求1至6任一项所述基于单目结构光的自检自校准方法的步骤。

10.一种非暂态计算机可读存储介质,其上存储有计算机程序,其特征在于,该计算机程序被处理器执行时实现如权利要求1至6任一项所述基于单目结构光的自检自校准方法的步骤。

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