[发明专利]量子点修饰方法、发光器件、其制作方法及显示装置

说明书

本申请实施例提供了一种量子点修饰方法、发光器件、其制作方法及显示装置。该量子点发光器件包括的发光层材料为表面修饰有浸润性可逆变聚合物的量子点，所述浸润性可逆变聚合物在温度低于最低共溶温度的条件下具有亲水性，在温度高于最低共溶温度的条件下具有疏水性。由于形成发光层的量子点表面修饰有浸润性可逆变聚合物，因此能够在墨水蒸干以形成发光层的过程中通过调整蒸发温度来改变墨水的接触角，从而调整蒸发的三相线，带动量子点均匀分散，从而调节咖啡环效应，形成均匀的发光层。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，具体而言，本申请涉及一种量子点修饰方法、发光器件、其制作方法及显示装置。

背景技术

喷墨打印是目前大规模制备发光薄膜的发展趋势。在喷墨打印中，墨水(以发光薄膜的材料为溶质的溶液)的均匀沉积对图案化及高精度制备器件的性能和应用非常重要。

咖啡环效应是喷墨打印中普遍存在的现象，咖啡环效应使得形成的发光薄膜的边缘厚度大于中央厚度，严重影响了发光薄膜的平整度，限制了其在器件制备方面的应用。

发明内容

本申请针对现有方式的缺点，提出一种量子点修饰方法、发光器件、其制作方法及显示装置，用于解决现有技术中咖啡环效应所引起的发光薄膜厚度不均的问题。

第一个方面，本申请实施例提供了一种量子点发光器件，该量子点发光器件包括：

衬底；

第一电极层，位于所述衬底的一面上，所述第一电极层包括多个像素电极，所述像素电极具有亲水性；

像素界定层，位于所述第一电极层远离所述衬底的一侧，所述像素界定层设置有多个开口以形成多个像素坑，所述开口与所述像素电极一一对应且每个开口暴露至少部分所述像素电极，所述像素界定层具有疏水性；

发光层，包括多个发光层单元，所述发光层单元位于所述像素坑内，所述发光层的材料为表面修饰有浸润性可逆变聚合物的量子点，所述浸润性可逆变聚合物在温度低于最低共溶温度的条件下具有亲水性，在温度高于最低共溶温度的条件下具有疏水性。

可选地，所述浸润性可逆变聚合物包括聚N-异丙基丙烯酰胺。

可选地，所述量子点为半导体量子点或钙钛矿量子点。

可选地，所述像素电极的材料包括氧化铟锡，所述像素界定层的材料包括含氟的感光聚酰亚胺。

可选地，所述发光层单元包括第一单元、第二单元和第三单元，所述第一单元的量子点发的光为红色，所述第二单元的量子点发的光为绿色，所述第三单元量子点发的光为绿色。

第二个方面，本申请实施例提供了一种量子点显示装置，该量子点显示装置包括上述的量子点发光器件。

第三个方面，本申请实施例提供了一种量子点修饰方法，该量子点修饰方法包括：

准备表面带有氨基的量子点并配置成溶液；

在所述溶液中加入引发剂，控制反应条件使所述引发剂与所述量子点上的氨基连接；

将聚合单体加入所述溶液中，控制反应条件使所述聚合单体聚合而生成浸润性可逆变聚合物且所述浸润性可逆变聚合物与所述引发剂连接；

对所述量子点体系进行提纯以获取表面修饰有所述浸润性可逆变聚合物的量子点。

可选地，在所述量子点上连接引发剂，包括：在碱性环境，向量子点溶液中加入2-溴代异丁酰溴或偶氮二异丁腈作为引发剂，在0℃-10℃的温度条件下聚合30min～60min。