[发明专利]一种微透镜的制备方法

权利要求书

1.一种微透镜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、准备基板和具有透光孔的光刻版，并使所述基板和所述光刻版在曝光设备内具有一定间距；

S2、在所述基板的蚀刻侧匀上光刻胶；

S3、控制所述光刻版向所述基板方向移动，并输出变化的曝光量，开始时，位于所述光刻版遮光区内的所述光刻胶一直处于光衍射的辐射中，随着所述光刻版与所述光刻胶间距的缩小，光衍射的辐射区域逐步缩小，最后逐渐消失；在上述过程中，使所述光刻胶本被遮光的区域因为光衍射而形成曝光区域，且随着间距的缩小和光衍射辐射区域的缩小，使得所述光刻胶上曝光区域边沿变得具有曲度，由此曝光显影后在所述基板上成型了进行刻蚀的光刻胶形貌；

S4、对所述基板进行等离子体刻蚀，将所述光刻胶形貌复制到所述基板上，以成型微透镜。

2.根据权利要求1所述的微透镜的制备方法，其特征在于，在步骤S3中，所述光刻版匀速向所述基板方向进行直线移动。

3.根据权利要求2所述的微透镜的制备方法，其特征在于，在步骤S3中，对所述光刻胶形貌进行烘烤工序。

4.根据权利要求3所述的微透镜的制备方法，其特征在于，在烘烤工序中，烘烤温度在150度至130度之间，烘烤时间在15之间至20分钟之间。

5.根据权利要求1至4任一项所述的微透镜的制备方法，其特征在于，所述基板和所述光刻版之间的所述间距小于30微米。

6.根据权利要求5所述的微透镜的制备方法，其特征在于，所述光刻版上阵列设置有多个透光孔。

7.根据权利要求6所述的微透镜的制备方法，其特征在于，在步骤S3中，所述光刻版向所述基板方向移动的次数设置为多次。

8.根据权利要求7所述的微透镜的制备方法，其特征在于，所述基板为蓝宝石基板、或者为硅基板、或者为玻璃基板。