[发明专利]一种浮法玻璃窑炉使用的烧结高锆平板砖及其制备工艺

权利要求书

1.一种浮法玻璃窑炉使用的烧结高锆平板砖，其特征在于，所述烧结高锆平板砖按重量份包括以下组分：二氧化锆+二氧化铪50％～95％、二氧化硅4％～45％、氧化铝0.5％～3％、二氧化钛0.1％～2％、氧化钙0.1％～1％。

2.根据权利要求1所述的一种浮法玻璃窑炉使用的烧结高锆平板砖，其特征在于，所述烧结高锆平板砖按重量份包括以下组分：二氧化锆+二氧化铪50％、二氧化硅4％、氧化铝0.5％、二氧化钛0.1％、氧化钙0.1％。

3.根据权利要求1所述的一种浮法玻璃窑炉使用的烧结高锆平板砖，其特征在于，所述烧结高锆平板砖按重量份包括以下组分：二氧化锆+二氧化铪95％、二氧化硅45％、氧化铝3％、二氧化钛2％、氧化钙1％。

4.根据权利要求1所述的一种浮法玻璃窑炉使用的烧结高锆平板砖，其特征在于，所述烧结高锆平板砖按重量份包括以下组分：二氧化锆+二氧化铪75％、二氧化硅25％、氧化铝1.5％、二氧化钛1％、氧化钙0.5％。

5.根据权利要求1所述的一种浮法玻璃窑炉使用的烧结高锆平板砖，其特征在于，所述烧结高锆平板砖的体积密度为3.8～5.5g/m³。

6.根据权利要求1所述的一种浮法玻璃窑炉使用的烧结高锆平板砖，其特征在于，所述烧结高锆平板砖的气孔率为0.1～18％。

7.根据权利要求1所述的一种浮法玻璃窑炉使用的烧结高锆平板砖，其特征在于，所述烧结高锆平板砖中各原料组分均采用粒度为0.5～3mm的细粉。

8.根据权利要求1～7中任意一项所述的一种浮法玻璃窑炉使用的烧结高锆平板砖的制备工艺，其特征在于，所述烧结高锆平板砖的具体制备工艺包括以下步骤：

(1)原料称取：按重量份配比要求称取所需原料二氧化锆+二氧化铪、二氧化硅、氧化铝、二氧化钛和氧化钙，备用；

(2)原料混合：将上述称量后的各原料依次放入搅拌罐内，再加入粘结剂和水进行搅拌，搅拌时间为15～30分钟，混合均匀，得到混合料；

(3)压制成型：将上述混合料放入模具中，使用2000吨静压机压制成型，得到砖坯；

(4)烧结：将上述砖坯在100～120℃下烘干12～24h后在电加热炉进行加热至1650～1800℃烧制；

(5)研磨抛光：将烧结后的平板转进行研磨抛光，得到成品。

9.根据权利要求8所述的一种浮法玻璃窑炉使用的烧结高锆平板砖的制备工艺，其特征在于，所述步骤(3)中的成型压力为26～32MPa。

10.根据权利要求8所述的一种浮法玻璃窑炉使用的烧结高锆平板砖的制备工艺，其特征在于，所述步骤(4)中的烧结温度为1650～1800℃，烧结时间为6～24h。